Cu/CoSi2 및 Cu/Co-Ti 이중층 실리사이드의 계면반응

(주)코리아스칼라

최초 등록일: 2016.04.02
최종 저작일: 1996.12; 7페이지/ 어도비 PDF; 가격 4,000원

다운로드

장바구니

상세정보
자료후기 (0)
자료문의 (0)
판매자정보

* 본 문서는 배포용으로 복사 및 편집이 불가합니다.

서지정보

ㆍ발행기관 : 한국재료학회 ㆍ수록지정보 : 한국재료학회지 / 6권 / 12호
ㆍ저자명 : 이종무, 이병욱, 김영욱, 이수천

한국어 초록

배선 재료나 salicide 트랜지스터에 적용될 것으로 기대되는 Cu 배선과 Co 단일층 및 Co/Ti 이중층을 사용하여 형성된 코발트 실리사이드간의 열적 안정성에 대하여 조사하였다. 400˚C열처리후 Cu3Si 막이 CoSi2층과 Si 기판 사이에 형성되었는데, 이것은 Cu 원자의 확산에 기인한 것이다. 600˚C에서의 열처리 후에 형성된 최종막의 구조는 각각 Cu/CoSi2/Cu3Si/Si과 TiO2/Co-Ti-Si 합금/CoSi2/Cu3Si/Si였으며, 상부에 형성된 TiO2층은 산소 오염에 의한 것으로 밝혀졌다.

참고 자료

없음

"한국재료학회지"의 다른 논문

(NH4)2Sx 용액 처리된 GaAs의 대기중 노출;GaAs 표면산화기구 및 안정성9페이지

강 유전체 박막을 위한 하부전극 MOCVD-pt 박막의 특성7페이지

1.0Cr-1.0Mo-0.25V강 용접부의 M6C 탄화물에 의한 크립 파단6페이지

기계적 합금화한 ODS NiAI의 이차 재결정화 거동9페이지

Excitation Hopping Behavior between Two Naphthy1 Moieti..6페이지

더보기 (5/10)

판매자 정보

코리아스칼라는 정직과 신뢰를 기반으로 학술단체 발전에 도움을 드리고자 하는 기업입니다. 본 사는 본 사가 자체 개발한 솔루션을 통하여 보다 효율적인 업무 관리 뿐만 아니라, 학술지의 데이터베이스화, ARCHIVE를 돕습니다. 본 사의 One Stop Service를 통해 국제적인 학술단체로 함께 도약 할 수 있다고 믿습니다.

주의사항

환불정책

해피캠퍼스는 구매자와 판매자 모두가 만족하는 서비스가 되도록 노력하고 있으며, 아래의 4가지 자료환불 조건을 꼭 확인해주시기 바랍니다.

파일오류	중복자료	저작권 없음	설명과 실제 내용 불일치
파일의 다운로드가 제대로 되지 않거나 파일형식에 맞는 프로그램으로 정상 작동하지 않는 경우	다른 자료와 70% 이상 내용이 일치하는 경우 (중복임을 확인할 수 있는 근거 필요함)	인터넷의 다른 사이트, 연구기관, 학교, 서적 등의 자료를 도용한 경우	자료의 설명과 실제 자료의 내용이 일치하지 않는 경우