플라즈마 공정

*로*

최초 등록일: 2010.01.16
최종 저작일: 2009.10; 31페이지/ MS 파워포인트; 가격 2,000원

다운로드

장바구니

상세정보
자료후기 (0)
자료문의 (0)
판매자정보

본문내용

플라즈마의 정의
기체 입자, 즉 기체분자나 원자에 에너지가 가해지면 최외각 전자가 궤도를 이탈함으로써 자유전자가 되어 양전하를 띄게 되며 분자 혹은 원자와 음전하를 갖는 전자가 생성된다. 이러한 양전하의 이온과 전자들이 다수가 모여 전체적으로 전기적인 중성을 갖으며 이렇게 구성된 입자들의 상호작용에 의해서 독특한 빛을 방출하며 입자들의 활발한 운동 때문에 높은 반응 성을 갖게되는데 이러한 상태를 흔히 이온화한 기체 또는 플라즈마라고 부른다.
Logo
플라즈마의 생성/구조
-생성과 구조-
플라즈마가 형성되고 있는 상태는 다음과 같은 3가지 상태가 복합적으로 일어나고 있다.
반발
이온화
여기와
반발
Logo
플라즈마의 특성
전기적 특성
화학적 특성
물리적 특성
자기적 특성
Logo
DC스퍼터링
DC스퍼터링
(D.C Glow Discharge sputtering)
→가장 간단한 스퍼터링 구조로서 전도성 물질의 스퍼터링에 사용된다. 이 구조의 가장 큰 단점으로는 비전도성 물질의 스퍼터링이 불가능하다는 것이지만 가장 일반적으로 손쉽게 사용할 수 있다는 것이 장점이다. 또한 이 장치는 반응성 스퍼터링(reactive sputtering)에는 적합하지 않은데, 특히 타겟 표면에 절연물을 형성함으로써 타겟의 오염을 유발시킬 수 있기 때문이다.

참고 자료

없음

이 자료와 함께 구매한 자료

PECVD / SPUTTER 7페이지
[박막] PECVD에 대하여 18페이지
CVD 화학기상증착 PPT 발표 자료ㄱ 18페이지
박막 성장 원리 및 성장 장비 설명 (CVD, MOCVD, APCVD, LPCVD, PCVD, PE.. 58페이지
[박막공학] CVD의 모든것 12페이지

주의사항

환불정책

해피캠퍼스는 구매자와 판매자 모두가 만족하는 서비스가 되도록 노력하고 있으며, 아래의 4가지 자료환불 조건을 꼭 확인해주시기 바랍니다.

파일오류	중복자료	저작권 없음	설명과 실제 내용 불일치
파일의 다운로드가 제대로 되지 않거나 파일형식에 맞는 프로그램으로 정상 작동하지 않는 경우	다른 자료와 70% 이상 내용이 일치하는 경우 (중복임을 확인할 수 있는 근거 필요함)	인터넷의 다른 사이트, 연구기관, 학교, 서적 등의 자료를 도용한 경우	자료의 설명과 실제 자료의 내용이 일치하지 않는 경우

이런 노하우도 있어요!더보기

찾던 자료가 아닌가요?아래 자료들 중 찾던 자료가 있는지 확인해보세요

반도체 공정 중 식각 및 증착에 이용되는 플라즈마의 원리 및 발생방법 정리 5페이지

공정용 플라즈마의 이온율은 0.001%이하임(저온플라즈마). ... 보통 반도체 공정에서 사용하는 플라즈마는 GLOW DISCHARGE 2. ... 최근 사용하는 high density plasma(HDP)는 1%정도의 이온화율을
플라즈마 응용 4페이지

반도체 제조 공정뿐만 아니라 에너지, 정전기, 환경, 생명공학, 재료, ... 있고, 내부는 항상 높은 전기에너지를 유지하기 때문에 불가능했던 여러 공정을 ... 플라즈마에 대한 연구가 활발해지고, 우리 생활 속 곳곳에서 플라즈마 응용기술이
PECVD에 대한 보고서 1페이지

따라서 디스플레이 공정에서 TFT의 절연막을 증착하는데 많이 사용되는 증착방법이다 ... 이를 해결해주는 것이 PECVD로 Plasma를 매개체로 화학반응을 통해서 ... 그러나 Plasma를 이용하기 때문에 이로 인한 기판의 손상이 일어난다는
플라즈마 기초 3페이지

전자들의 비율은 Plasma 공정의 전체 효율과 Plasma 공정의 속도를 ... 실제 반도체 공정에서 자주 사용되는 축전결합 플라즈마(CCP, Capacitively ... 자연계 제4의 물질 상태, Plasma 플라즈마는 고온 상태에서 이온화 된
Plasma induced damage 8페이지

이를 위해서 새로운 공정이 도입되었는데 특히 Plasma를 이용한 공정이 ... 미세공정이 발전될 수록 plasma density는 높아지고 이는 더 큰 ... Introduction 반도체 공정에서 집적도의 향상으로 인해 미세 패턴의
Patterning and treatment of SiO2 thin films 예비보고서 A+ 6페이지

실험 이론 1) 플라즈마 (Plasma) 란? ... 크게 3가지종류가 있는데, high pressure plasma etching ... 플라즈마중의 양이온이 플라즈마 sheath에 의해 가속됩니다.
재료공학실험1 - PECVD 2페이지

PECVD 공정 플라즈마 화학 기상 증착법의 줄임말으로 플라즈마를 이용하여 ... PECVD의 특징 - 플라즈마를 이용해 낮은 온도에서 공정이 가능하다. - ... 원하는 물질을 기판에 증착시키는 공정을 의미하며, TFT의 절연막과 보호막
[반도체공학실험]반도체 패터닝 7페이지

Silicon wafers : 고순도의 실리콘을 녹여 절단 연마 등의 공정을 ... 산업적으로 반도체 공정에서는 Selectivity를 증가시키기 위해 많은 ... 공정상 문제 1) 아래 같은 pattern 모양을 형성하기 위해서 어떠한
(특집) 증착공정 심화 정리4편. 증착공정 中 화학적 반응 공정, 물리적 반응 공정 3페이지

(플라즈마 이용) Filament and Electron Beam(백열등) ... {3) PECVD(Plasma Enhanced CVD) : LPCVD에 비해 ... Magnetron(직류+자석을 달아서 부딪히게 하는 방법) Ionized Mertal plasma
반도체 공정 관련 내용 정리 리포트 11페이지

불순물 주입 공정 : ION implantation 표면 세정 공정 : ... 자기적 성질을 이용해 자계를 걸어주면 plasma desntiy 높일 수 ... 있음 Plasma = ion + electron + neutral(radic
전해 플라즈마 공정을 이용한 표면처리 2페이지

1.제목 : 전해 플라즈마 공정을 이용한 표면처리 2.목표 : 전해 플라즈마 ... 공정 및 형성된 산화물층의 특성 이해 3.전해 플라즈마 공정을 이용한 표면처리
진공증착레포트 5페이지

PECVD(Plasma enhanced CVD) 플라즈마를 이용한 CVD방법으로 ... 깨끗하고, 진공상태에서 저항 열이나 전자 beam, laser beam 또는 plasma를 ... 증착(Deposition)공정이란 반도체 소자를 구동하기 위해 필요한 다양한
플라즈마의 정의, 성질, 종류, 발생방법, 응용기술 4페이지

이와 같은 특성을 이용한 것이 PECVD(Plasma Enhanced CVD ... 이 러한 문제를 해결하기 위해 PR제거공정은 100%플라즈마 에싱 공정마능로 ... PR은 C, H, O의 원자들로 구성되어있는 폴리머이므로 에싱 공정에서는
플라즈마공정의 발생 메커니즘 2페이지

그러므로 상압플라즈마가 아니라 매우 고진공 상태의 플라즈마이다. ... Pulsed plasma thruster의 발생 mechanism 1. ... Pulsed plasma thruster 먼저 아래 그림과 같은 개략도를
[2019최신 공업화학실험] 패터닝 예비보고서 6페이지

실험 이론 1) 플라즈마 (Plasma) 란? ... 이용하는 시스템인 TCP(Transforner Coupled Plasma ... 플라즈마는 고온이기 때문에 입자의 운동에너지가 매 우 크고 전도성이 높아
대기압플라즈마세정원리 11페이지

따라서 표면에 전처리가 필요한 공정등에 사용이 되는데 유기물을 제거하거나 ... 공정에 있어서 표면의 전처리 또는 유기물의 제거는 그 필요성이 높기 때문에 ... 대기압 플라즈마의 사용 -08- 1. 플라즈마란?