Photolithography 예비보고서
- 최초 등록일
- 2011.11.16
- 최종 저작일
- 2010.12
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소개글
논문형식으로 작성하였으며, 학부 4학년 실험입니다. A+ 받았습니다.
목차
I. 서 론
II. 본 론
III. 결 론
Ⅳ. 참 고 문 헌
본문내용
우리나라의 기간산업인 철강, 화학공업, 조선공업 등의 산업들이 있다. 그 중 첨단기술 산업에 있어서 ‘산업의 쌀’이라고 반도체 산업은 매우 중요한 산업으로, 우리가 사용하고 있는 컴퓨터나 핸드폰 등에 가장 중요한 부분 중 하나이다. 이 번 실험의 주제는 반도체 산업의 공정 중의 하나인 Photo-Lithography로 반도체와 같이 나노(nano)정도 크기에 미세한 Patterning을 하기 위한 공정이다. 우리 실험에서는 실제 반도체 산업에서 사용되는 복잡한 Photo-Lithography 기술은 아니지만, Photo-Lithography의 간략한 원리를 알아 볼 수 있는 실험이다.
I. 서 론
Photo-Lithography는 반도체와 같이 nano급의 미세한 Patterning을 하기 위한 공정 중 하나이다. 해석을 하자면 사진 석판화인데, 이 것은 우리가 초등학교 과학시간에 배웠던 판화실습과 유사한 실험이다.
Figure 1. 반도체(Semiconductor)
미세 가공기술 개발의 선두에 있는 DRAM 기술을 포함한 여러 반도체 공정에 있어 Lithography 기술은 전체 기술의 개발에 중요한 요인이 되어왔다. Lithography는 시스템 집적 반도체를 포함한 기억소자와 마이크로 프로세서(micro processor)등의 실리콘 소자뿐만 아니라 화합물 소자나 Thin film disk head, Ink jet printer head 그리고
참고 자료
Harald Ibach, “Solid-state Physics”, ㈜사이텍미디어, 2000, pp.456-459
David J.Griffiths, “Introduction to Electro-dynamics”, 교학사, 2002, pp.182-188
http://100.naver.com/100.nhn?docid=55401
.http://blog.naver.com/55co?Redirect=Log&l_og_no=110028596129