재공실 - 은 나노 잉크 예비보고서

목차

1. 반도체 제조 공정 중 기존의 lithograph 공정과 잉크젯 프린팅 공정의 차이에 대해 조사하고 잉크젯 프린팅 공정을 적용하였을 경우 얻어지는 장점을 알아보자.
1) Lithograph 공정
2) 잉크젯 프린팅 공정
3) 잉크젯 공정의 장점

2. 은 나노 합성 과정중 polyol processing에 대하여 알아보자.

3. 점도 측정에 사용되는 brookfield의 원리에 대하여 알아보자.
1) 점도
2) Brookfield 점도계

4. 참고자료

본문내용

1. 반도체 제조 공정 중 기존의 lithograph 공정과 잉크젯 프린팅 공정의 차이에 대해 조사하고 잉크젯 프린팅 공정을 적용하였을 경우 얻어지는 장점을 알아보자.

1) Lithograph 공정
반도체 제조공정에서 많이 쓰이는 lithograph(노광) 기술은 일반적으로 광에 의하여 마스크 상의 기하학적 모형을 반도체 웨이퍼의 표면에 도포되어 있는 얇은 감광재료에 옮겨 놓은 것을 말한다. 다시 말하면, 집적 회로를 제작할 때 만들고자 하는 패턴을 실리콘기판에 화학 처리나 확산 처리하는 기술을 말한다. Lithography 공정은 E-Beam Lithography, UV Lithography, Soft Nano Imprint Lithography, Photo Lithography, Soft Lithography 등으로 다양하게 나눠진다. Lithography 공정은 반도체 전체 공정의 30%이상을 차지하는 단위 공정으로, 웨이퍼위에 후속 에칭 공정의 방어막 역할을 하는 유기물의 특정 패턴을 적절한 파장의 빛과 마스크를 이용하여 정확한 위치에 정확한 크기의 패턴을 전사하는 공정이라고 할 수 있다. 즉, 집적 회로 제작 시 실리콘칩 표면에 만들고자 하는 패턴을 빛으로 촬영한 수지를 칩 표면에 고정한 후 화학 처리나 확산 처리하는 기술이다. 이 기술의 핵심은 짧은 파장의 빛을 사용하여 정밀도를 높이는 것으로, 처음에는 가시광선, 자외선을 사용했으나 최근에는 전자빔을 사용해 더 미세한 패턴을 만든다.

2) 잉크젯 프린팅 공정
잉크젯기술은 1970년 Kyzer, Zaltan등에 의해 Drop on demand(DOD)방식이 개발되어 산업용으로 사용되어오다 1980년 초에 HP, Canon이 Thermal방식의 잉크젯헤드를 개발하고 뒤이어 Epson이 Piezo방식의 헤드를 개발함으로서 본격적인 OA용 프린터응용이 시작되었다.
잉크젯 프린팅 공정은 부피가 수십 피코리터 이하의 작은 액적을 전기 또는 자기로부터 나오는 힘이나 공압에 의해 초당 대략 수백번 이상의 빈도로 인쇄할 대상에 분사하여 직접 무늬를 만드는 기술을 말한다.

<이하생략>

참고 자료

잉크젯 프린트 기술의 현황과 전개. 한국정보디스플레이학회지 제5권 3호, 2004. 안동훈 외.
http://iac.uta.edu/mntv/pdf/UV-Lithography.pdf
http://www.cheric.org/ippage/p/ipdata/2005/08/file/p200508-801.pdf
http://blog.naver.com/flashjeong?Redirect=Log&logNo=54697983