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Microlens array photography and reflow report(레포트/보고서) - 설계 및 생산공학2 (2015)

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최초 등록일
2016.04.04
최종 저작일
2015.09
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목차

1. Photolithography & Reflow process를 이용한 Microlens array 제작
1) 공정 이론
2) 실험 결과 분석
3) 고찰
4) 산업 분야에서의 응용

2. Beam-profiler를 이용한 Microlens array 성능 평가 및 Microlens array 응용
1) Beam-profiler 이론
2) 실험 결과 분석
3) 고찰
4) 산업분야에서의 응용

본문내용

1. Photolithography & Reflow process를 이용한 Microlens array 제작
1) 공정 이론
Microlens array를 제작하기 위해서 크게 여섯 가지의 공정을 거친다. 첫 번째로는 보다 정밀한 공정을 하기 위해 Wafer Cleaning을 한다. 두 번째로 마스크 기판에 PR(Photo Resist) 용액을 도포하고 고속으로 회전시켜 균일하게 만들어준다. 그리고 세 번째로 도포된 PR이 자리를 잡도록 Soft bake를 해준다. 네 번째로 Microlens 모양이 새겨진 마스크를 기판에 올려 노광시킨다. 이때 PR은 빛에 반응하여 마스크로 가려진 부분을 현상(다섯 번째)하게 된다. 그리고 마지막으로 Reflow process를 통해 완전한 모양의 Microlens를 얻게 된다.
Microlens 모양을 구현해내기 위해서 Reflow process가 이용되는데, 원기둥 모양의 PR이 고온에 노출되면서 녹게 되고, 표면장력의 영향을 받아서 반구형태의 렌즈 모양이 된다.

참고 자료

없음

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