[A+ 보고서]패터닝 결과보고서

목차

1. 실험 준비물
2. 실험 방법
3. 실험 조건
4. Result and discussion
5. Conclusion
6. Process problem
7. 참고자료

본문내용

1. 실험 준비물
실리콘 와이퍼 5조각, 표면 코팅 및 식각 장치, 광학현미경, surface profiler, Ar, C2F6, O2 gas, 핀셋, 스탑 워치, 실험복

2. 실험 방법
1) 냉각수 밸브를 열고, 가스의 밸브도 열어둔다.
2) 포토 레지스트 코팅이 완료된 실리콘 와이퍼 2조각(2,3번 시료)을 표면 코팅 및 식각 장치에 넣는다. (1번 시료는 비교 군으로 아무런 작업도 하지 않는다)
3) 식각 장치의 main chamber 내의 압력을 진공(약 0.009Torr)으로 만든다.
4) chamber 왼쪽 위의 밸브를 식각 모드 (etching mode)로 설정한 후 가스 밸브를 열고 flow rate controller에서 Ar을 10sccm으로 C2F6을 20sccm으로 설정한다.
5) main chamber 밑의 진공 펌프를 조절하여 압력을 0.2torr로 만들고 전압을 200W로 조절한다.
6) 스탑 워치를 이용하여 2분간 etching을 진행한다.

참고 자료

유도결합플라즈마를 이용한 실리콘카바이드 후면 비아홀의 식각 특성 연구(2012), 한서대학교 석사논문, <최일환>