인하대학교 공업화학실험 패터닝 예비보고서 A+
- 최초 등록일
- 2018.12.31
- 최종 저작일
- 2017.03
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소개글
인하대학교 화학공학과 3학년 전공실험
공업화학실험 패터닝 예비보고서 입니다.
성적은 A+ 받았습니다.
목차
1. Title
2. Summary
3. Experimental objective
4. Experimental details
5. Theoretical background
6. References (상세히 작성)
본문내용
1. Title
Patterning and treatment of SiO2 thin films
2. Summary
- Pattern the silicon dioxide (SiO2) layer using PR(Photoresist).
- Determine the optimal etch parameters and etching gas, then etch SiO2 layer using – Reactive Ion Etching(RIE)
- Observe the color change of the etched SiO2, measure the thickness of the thin films and observe the patterns of etched films.
3. Experimental objective
Understand the process by which the patterns made by masks are engraved on the thin films, examine the film surface and measure the change in thickness before and after etching.
참고 자료
윤창주, 화학용어사전, 화학용어 사전편찬회, 일진사
인하대학교 화학공학과, 공업화학 실험교재, 2017, pp20~29
변인수외 3명, First Engineer반도체공학, 동일출판사, p77, pp88~89, p178
윤현민외 2명, 반도체공학3판, 북두출판사, 2012, pp84~101
연규호, 반도체공학(기초), 상조사, 1994, pp118~121