광전자공학-Resolution Enhancement Technology
- 최초 등록일
- 2020.11.20
- 최종 저작일
- 2020.11
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목차
1. Resolution(분해능,해상도)
2. Resolution Enhancement Technology(RET, 해상도향상기술)
① OPC(Optical Proximity Correction, 광학근접보정)
② OAI(Off-Axis Illumination, 비등축조명)
③ PSM(Phase-Shift Masks,위상변위마스크)
④ Immersion Lithography (액침노광)
⑤ Double / Quadruple Patterning Technology
본문내용
1. Resolution(분해능,해상도)
-> Resolution(분해능,해상도)은 서로 떨어져있는 두물체를 서로 구별할 수 있는 능력을 의미한다. 주로 광학기기의 성능을 나타낼때에 사용된다.
두점이 근접해있을때 Airy Disk는겹치게되고, 두점이R 이하의 거리로 근접해있으면두점으로 보이지않고 한점으로 보이게된다. 이때의 R분해능 또는 분해능한계(resolution limit)라한다. 따라서 Rayleigh기준에 의하면 한 회절의 중심 극댓값이 다른 회절의 첫 번째 극소값에 있을때 겨우 분해 가능하다.
Resolution공식은 다음과 같다.
<중 략>
파장의변화가 없는상태에서 NA 값을 올리면 보다 작은 R값을 얻을수있다. 하지만 NA 값의증가는 한계가 있으므로 빛보다 짧은파장의 전자빔을 이용해서 R값을 보다 감소시킬수있다.
반도체의 크기가 점점 줄어들면서 반도체 표면에 Pattern을 형성시키는 리소그래피 공정의 분해능이 더욱 좋아 져야한다. 따라서 공정변화 따라 분해능이 좋아지는 방법을 알아보자.
2.Resolution Enhancement Technology(RET, 해상도향상기술)
1) OPC(Optical Proximity Correction, 광학근접보정)
회절 된 빛이 리소그래피 장비의 렌즈를 벗어 나게되고 그로 인해 웨이퍼에 패턴을 형성시키는 과정에 참여하지 못하게되어 웨이퍼 상에 왜곡 된 마스크 패턴이 생기는 현상이 일어난다. 이러한 근접 효과를 보정하기 위해 마스크 패턴을 만들 때 Assist feature (보조 형상)을 이용하여 분해능을 향상시키는 방법을 OPC(Optical Proximity Correction, 광학근접보정)이라고 한다.
참고 자료
https://www.kipost.net/news/articleView.html?idxno=4633
https://blog.naver.com/rlaehdgh4454/221700946767
https://m.blog.naver.com/jgw1030/221170867513
https://blog.naver.com/audrn8570/222089622440
http://cyber.gachon.ac.kr/mod/ubfile/viewer.php?id=234326
