금속,반도체 박막의 전기적 특성 분석 보고서

소개글

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목차

1. 4-point의 동작 원리

2. 주사전자현미경의 원리

3. 현미경 이미지에서 평균 grain size를 결정하는 방법

4. Hall Measurement 측정 원리

5. 실험 결과및 고찰
1) ALD-Ru 박막의 증착 온도 (180, 220, 260 oC) 에 따른 면저항 변화
2) ALD-Ru 박막의 후속 열처리 (400, 500 oC) 에 따른 평균 grain size결정
3) ALD-Ru 박막의 증착온도 및 후속 열처리에 따른 비저항 변화에 대한 결과 해석 및 고찰
4) 반도체 박막 (ALD-Co3O4)의 Hall Measurement 결과및 결과에 대한 해석/생각

본문내용

1. 4-point의 동작 원리
- 바늘모양의 침인 포인트가 4개여서 4point이고 바깥쪽 Probe 단자 1과 4에 일정한 전류를 흘려주고 Probe 단자 2와 3사이의 전압을 측정하여 전압과 전류 사이의 비율을 이용하여 저항율 을 계산한다. 이때 Probe tip 은 일정한 간격으로 떨어져서 정렬되어 있다.
금속박막을 밑에 넣으면 침이 동시에 내려와서 박막에 표면을 찍으면 저항값을 알 수 있는데 면저항 의 단위를 맞춰주기 위해 보정상수를 적용하여 면저항을 측정한다.
보정상수는 샘플의 크기, 박막의 두께, 측정 시 온도를 통해 산출된다. 실험시 주어진 조건에 맞는 상수값을 설정한 뒤 면저항값을 구해야 한다. 따라서, 결과적으로 면저항 값을 측정해 박막의 두께를 곱해주면 비저항 값을 구할 수 있다.

2. 주사전자현미경의 원리
- 주사전자현미경은 가시광선을 광원으로 사용하는 광학현미경과는 다르게 전자선을 광원으로 사용하여 파장이 매우 짧아서 아주 작은 입자크기도 측정할 수 있는 좋은 분해능을 가지고 있다.

참고 자료

없음