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"Wafer test" 검색결과 1-20 / 23건

  • 파워포인트파일 반도체 7개공정 요약본
    반도체 공정 1 /18 2 /18 WAFER 란 ? - 반도체 집적회로의 핵심 재료 - 실리콘 (Si), 실리콘카바이드 (4H-SIC), 갈륨 아세나이드 ( GaAs ) 등을 성장시켜 만든 단결정 기둥을 적당한 두께로 얇게 썬 원판 1.1 INGOT 제조 - 쵸크랄스키..
    리포트 | 18페이지 | 1,000원 | 등록일 2022.12.06
  • 워드파일 반도체 정리
    반도체 기초 반도체 정의 전기 전도도에 따른 정의 도체 : 금속과 같이 전기가 잘 통하는 물질(비저항이 낮다) 부도체 : 유리와 같이 전기가 잘 통하지 않는 물질(비저항이 높다) 반도체 : 전류가 잘 흐르는 정도가 도체와 부도체의 중간 정도인 물질 단원소 반도체 : 실..
    리포트 | 18페이지 | 2,500원 | 등록일 2020.11.06
  • 한글파일 삼성전자 파운드리 공정기술 직무면접 준비자료
    삼성전자 적성면접 준비 1. Si 에너지 밴드? 2. 에너지 밴드 갭? 3. 부도체, 반도체, 도체? 4. FET이란? 5. MOSFET이란? 6. MOSFET의 동작 원리? 7. MOSFET과 MOSCAP의 차이? 8. MOSFET Threshold Voltage의 ..
    자기소개서 | 19페이지 | 3,000원 | 등록일 2023.09.07
  • 한글파일 신소재공학실험_ Scratch 방향과 Epoxy Molding Compound 강화제 종류에 따른 Si chip 휨 강도 분석
    Scratch 방향과 Epoxy Molding Compound 강화제 종류에 따른 Si chip 휨 강도 분석 성명 영어 성명1 1Department of Materials Science & Engineering, OOOO University 119 Songdo-Don..
    리포트 | 7페이지 | 1,500원 | 등록일 2021.04.29
  • 파일확장자 반도체 제조 공정 보고서
    1. 소개반도체공정을 주제로 반도체 제조 공정에 중심적인 내용을 다루고 반도체의 역할과 종류, 반도체 관련 장비 및 기술, 반도체산업의 시장과 전망을 조사하여 반도체에 관한 전반적인 내용을 다룰 것이다.2. 반도체 개요2.1 반도체란 - 반도체는 특별한 조건에서 전기가..
    리포트 | 22페이지 | 3,000원 | 등록일 2021.04.07
  • 파워포인트파일 [PPT] 반도체 제작공정
    반도체 제작공정 목 차 회로의 구성요소 반도체 웨이퍼 (Wafer) 포토 (Photo) : Exposure, Develop, Etching 증착 (Deposition), 이온주입 (Ion Implantation) 반도체 제작공정 금속 배선 (Metal Interconn..
    리포트 | 14페이지 | 2,000원 | 등록일 2017.06.20
  • 한글파일 반도체결정의 제조공정에 대하여
    반도체결정의 제조공정에 대하여 반도체 칩의 제작은 다섯가지 단계로 크게 나눌수가 있다. 웨이퍼 제조->반도체 칩의 제작->테스트/분류->조립과 패키징 ->마지막 테스트 로 나눌수가 있는 것이다. 웨이퍼 제조 1.천연실리콘 보통의 석영 모래는 주로 규암으로 이루어져 있으..
    리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.05.30
  • 파워포인트파일 반도체소자와공정-1
    반도체 소자와 공정 OUTLINE 1.반도체 소자 1) 바이폴라(TTL, ECL) 2) 유니폴라(NMOS, CMOS) 2.반도체 공정 1) wafer 제조 2) 산화 공정 3) 노광 공정 4) 식각 공정 5) 확산 및 이온주입 공정 6) 박막 증착 공정 7) 테스트 공..
    리포트 | 21페이지 | 3,000원 | 등록일 2012.04.21
  • 파워포인트파일 반도체 제조 공정
    반도체 제조 공정 반도체 제조공정소개 웨이퍼제작 (Ingot) 마스크제작 웨이퍼가공 (Fabrication) 검사(Test) 조립 (Assembly, Packaging) 반도체공정 요약 회로설계 모래로부터 고순도 단결정 실리콘웨이퍼를 만들어내는 과정 웨이퍼상에 구현될 ..
    리포트 | 63페이지 | 3,000원 | 등록일 2007.12.27
  • 한글파일 반도체 집적회로와 소자기술
    반도체 집적회로와 소자기술 ◆반도체 집적회로 기술 반도체 집적 회로 기술이란 다수의 트랜지스터와 저항, 커패시터 등의 수동 소자를 하나의 반도체 칩에 구현하여 원하는 동작을 수행하는 회로를 제작하는 기술을 말한다. 한 장의 웨이퍼로부터 수십 개에서 수천 개의 칩이 반도..
    리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.10.22
  • 한글파일 No.46 결함의 방향이 실리콘 칩의 toughness에 미치는 영향
    1. 실험 목적 : 결함의 방향이 실리콘 칩의 toughness에 미치는 영향에 대해 알아본다. 2. 실험 방법 ①Wafer의 전면에 notch를 만든다. -glass cutter(SRC펜)를 이용하여 고르게 scratching을 준다. -scratching을 줄 때..
    리포트 | 10페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.12.24
  • 한글파일 반도체공정 (Packaging)
    Fabrication Report (2월) 박 형 석 < Wafer testing > IC electrical tests Table 1.1 Different electrical tests for IC production (from Design stage to Pack..
    리포트 | 41페이지 | 4,500원 | 등록일 2007.01.27
  • 한글파일 No.44 강화제 첨가가 실리콘 칩의 toughness에 미치는 영향
    1. 실험 목적 : 강화제 첨가가 실리콘 칩의 toughness에 미치는 영향에 대해 알아본다. 2. 실험 방법 ①Wafer의 전면에 notch를 만든다. -glass cutter(SRC펜)를 이용하여 고르게 scratching을 준다. -scratching을 줄 때..
    리포트 | 5페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.12.24
  • 한글파일 반도체 소자 및 반도체 집적 회로
    반도체 소자 및 반도체 집적 회로 3.1 반도체 소자 반도체 소자 및 반도체 집적 회로 반도체는 현재의 우리의 실생활과 가장 밀접한 관계가 있는 분야이다. 컴퓨터, 가전제품을 비롯한 전자제품을 제조하는데 없어서는 안 될 우리의 가장 가까운 친구가 되었다. 그러나 반도체..
    리포트 | 45페이지 | 8,000원 | 등록일 2017.12.31
  • 한글파일 증착기를 이용한 반도체 공정
    재료 공학 실험 증착기를 이용한 반도체 공정에 대하여... ◎ 증착기를 이용한 반도체 공정 Ⅰ. 증착 - 금속 또는 비금속의 작은 조각을 진공 속에서 가열하여 그 증기를 물체면에 부착시키는 일. 고진공에 놓은 용기 속에 피복(被覆)될 물체와 그 표면에 부착시키려는 금속..
    리포트 | 7페이지 | 1,500원 | 등록일 2008.09.21
  • 한글파일 반도체 제조공정
    과목명 : 1학년 콜로키움 제목 : 반도체 제조공정 제출일 : 10월 28일 (2)조 작성자 : 인치선 조원 : 심윤우, 호종찬 학번 심윤우 : 인치선 : 호종찬 : 반도체 제조 공정 1. 반도체란(Semiconductor)? 전기가 반쯤 통하는 성질, 전기를 잘 통하..
    리포트 | 12페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.11.05
  • 파워포인트파일 반도체 제조 공정
    반도체 제조 공정 Part.7 PR coating Contents * 반도체 제조 공정 19단계 * Part 7. 감광액 도포 고순도로 정제된 실리콘 용융액에 시드(Seed) 결정을 접촉하고 회전시키면서 단결정 규소봉(Ingot)을 성장 1. 단결정성장 성장된 규소봉을..
    리포트 | 29페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.01.03 | 수정일 2019.04.09
  • 한글파일 반도체 제조공정
    반도체 제조 공정 목 차 1. 반도체란(Semiconductor)? 2. 반도체의 특성 3.반도체의 종류 4.반도체의 재료 5. 반도체 제조공정 1) 단결정성장 2) 규소봉절단 3) 웨이퍼 표면연마 4) 회로설계 5) 마스크(Mask)제작 6) 산화(Oxidation)..
    리포트 | 8페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.03.21
  • 한글파일 [반도체] VLSI 대규모 집적 회로 생산
    APPENDIX A (VLSI Fabrication Technology) A.1 { IC FABRICATION STEPS 1) 실리콘 웨이퍼 제조 { 규석 산화물, 규산염 (지표의 28%) 전기로 { 다결정 실리콘 Czochralski 성장법 Float Zone 성장법..
    리포트 | 13페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.06.24
  • 워드파일 [반도체공학] 반도체기초과정
    목차 1. 반도체의 특징과 결합원리 원자의 구조 이온결합(ionic bonding) 공유결합(Covalent bonding) 금속결합(metallic bonding) < 물질의 전도성> 도체, 부도체, 반도체 2. 반도체소자의 제조공정 단결정성장 규소봉절단 웨이퍼 표면..
    리포트 | 14페이지 | 1,500원 | 등록일 2005.04.21 | 수정일 2021.03.30
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