"direct nitriding method" 검색결과 1-11 / 11건

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  전기 전자 통신 IT 영어 용어 단어장(통번역, 연구, 논문 작성용)

  Meter Kilogram SecondMKS 단위계전기전자/통신 MKSA; Meter Kilometer Second AmpereMKSA 단위계전기전자/통신 MNOS; Metal Nitride ... of images영상법전기전자/통신 method of separation of variables변수분리법전기전자/통신 metric coefficient거리계수전기전자/통신 MF; ... 전기자동차전기차 MES-FET; Metal Semiconductor Field-Effect Transistor금속 반도체 효과 트랜지스터전기전자/통신 Meter계기전기전자/통신 method

  리포트 | 21페이지 | 30,000원 | 등록일 2023.01.21

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  X-선 회절법에 의한 철-질소 화합물층의 ε과 Υ'상 분율 해석

  한국재료학회 김윤기

  논문 | 7페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

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  규석광으로부터 직접 질화법에 의한 질화규소의 합성

  한국재료학회 손용운, 주성민, 정헌생

  논문 | 5페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

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  PN 다이오드공정설계

  oxide p1.x=9.5 right RATE.ETCH MACHINE=PLASMA1 SILICON U.M RIE ISOTROPIC=0.1 DIRECT=0.9 ETCH MACHINE ... .str load mesh infile = electrode.str #Zenerdiode Modeling models bipolar bbt.std print impact selb method ... thick=0.25 div = 5 etch nitride p1.x=0.5 left etch nitride p1.x=9.5 right etch oxide p1.x=0.5 left etch

  리포트 | 10페이지 | 4,000원 | 등록일 2009.08.12 | 수정일 2015.07.13

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  금속산화물 및 질화물의 합성 실험

  . ▷ 표 AlN분말의 합성법 Carbothermal reduction Direct nitridation Flotation nitridation CVD Vapour phase Organometallic ... Method 알루미늄의 숙신산 착물을 전구물질로 하며, 별도의 탄소의 혼합 없이 질화반응을 시켜 AlN분말을 합성한다. (1) 전구물질의 합성 1ℓ용량의 삼각플라스크 속에 물 100

  리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.05.27

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  플라즈마, Chemical Vapor Deposition 와 Physical Vapor Deposition

  to be deposits atomistically on a suitably placed substrate. ( Chemical Vapor Deposition of Silicon Nitride ... The use of this method with ozone and TEOS is common in the industry, especially for shallow trench and ... DC Sputtering Process DC Sputtering Using Direct Current Power Low substrate temperature High Deposition

  리포트 | 28페이지 | 2,000원 | 등록일 2010.06.18

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  Thin film Deposition(박막 제조)

  liquid injection CVD (DLICVD) - Plasma methods (see also Plasma processing) Microwave plasma-assisted ... vacuum CVD (UHVCVD) - Classified by physical characteristics of vapor Aerosol assisted CVD (AACVD), Direct ... Silicon Nitride film : Used most in GaAs processing : High dielectric constant(=6-7) - Capacitor dielectrics

  리포트 | 9페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.04.03

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  SPM(Scanning Probe Microscope) & AFM (Atomic Force Microscope)의 장치 비교 및 각각의 역사, 이론, 원리

  Align Laser and Tip-Sample Approach (2 Methods) 1) Magnifier Method for Aligning Laser and Tip-Sample ... 2) Optical Viewing Microscope Method 7. ... The following examples show the resulting angle and image profiles of silicon nitride and silicon tips

  리포트 | 35페이지 | 2,000원 | 등록일 2009.03.24

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  Lithography

  Method : Dry and Wet etch. Wet chemical etching BOE(or BHFesist or silicon. ... This etching tends to be an isotropic process, etching equally in all directions. ... Silicon nitride(Si3N4), polysilicon, photoresist, and metals are also routinely used as barrier meterials

  리포트 | 22페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.01.18

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  [반도체 공정]mocvd

  , silicon oxynitride, titanium nitride, and various high-k dielectrics. ... Rapid Thermal CVD (RTCVD) - CVD processes that use heating lamps or other methods to rapidly heat the ... Remote Plasma Enhanced CVD (RPECVD) - Similar to PECVD except that the wafer substrate is not directly

  리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.05.22

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  [나노소자 공학] Semiconductors for Micro and Nanosystem Technology

  Maybe no one imagines method of Bottom-up production engineeri fantastic things. ... Crystalline silicon Nitride is not found on silicon wafers because very high temperopto-electronic lasing ... is a one-way valve with two electrical terminals, and allows current to flow through it in only one direction

  리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.05.12

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