[반도체]CVD

*준*

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최초 등록일: 2003.04.19
최종 저작일: 2003.04; 21페이지/ MS 파워포인트; 가격 2,500원

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반도체 제조 공정중 CVD에 대해서 자세한 설명입니다. term paper로 작성한 것입니다.

본문내용

반도체 공정에 주로 이용되던 화학기상증착(CVD)을 기체 상태의 화합물을 공급하여 기판과의 화학적 반응을 유도함으로써 반도체 기판위에 박막층을 형성하는 공정
...
4. CVD의 전조 물질의 조건
상온에서의 안정성
반응 Zone에서의 완전한 반응 능력
라인에서 응축되는 것 없이 반응 Zone으로 쉽게 전달될 수 있도록 낮은 온도에서의 충분한 휘발성
매우 높은 순도로 제조 가능
Side rxn 이나 parasitic rxn없이 반응 능력

5. CVD를 이용한 증착 과정
박막의 증착
후열처리
결정구조 분석 XRD 분석
AES 분석
표면 및 단면 분석

참고 자료

없음

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