[재료공학(고분자공학)] 감광성 고분자를 이용한 PR(Photoresist) 공정,고흡수성 수지를 이용한 흡수력 테스트

목차

없음

본문내용

실험 목적
새로운 기능성 소재인 감광성 고분자의 응용범위는 날로 확대되어 반도체 집적회로 제작(IC, LSI, VLSI)을 비롯하여 인쇄제판 재료, UV잉크,UV-접착제, 치과용 재료, 광디스크, 정보 기록용 재료 등에 폭넓게 이용되고 있다. 특히 광조사 전후의 변화한 용해도 차를 이용하는 고해상력의 Photoresist는 인쇄판, 전자부품의 제조와 가공 및, 반도체 소자에 이용되고 있다. 따라서 본 실험에서는 감광성 고분자를 이용한 PR(Photoresist) 공정을 해 봄으로써 사용되는 고분자의 종류, 광원 등의 차이에 따른 반도체 전사과정을 이해한다.

참고 자료

- Introduction to the Oragnic Chemistry, Brown
- Polymer Chemisty
- www.chemweb.com/alchem/2000/news/nw_001220_polyc.html