숭실대 Photo-lithography 결과보고서
- 최초 등록일
- 2022.10.05
- 최종 저작일
- 2021.11
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소개글
이번 자료는 숭실대학교 신소재공학과 <신소재 공학 실험2>레포트 입니다.
실험 수업은 시험도 물론 중요하지만, 레포트와 실험 중의 참여도 점수도 꽤 큰 비중을 차지합니다.
그런데 이번엔 학과 개편이 일어나면서 실험 내용이 전부 바뀌게 되었습니다. 조교님들도 처음해보는 실험도 있었기에 자료를 찾는 것이 어려웠습니다. 저의 레포트가 참고가 되길 바랍니다.
목차
1. 실험 제목
2. 실험 날짜
3. 실험 목적
4. 시약 및 기기
5. 실험 방법
6. 실험 결과
7. 결론 및 고찰
본문내용
1. 실험 제목 : Photo-lithography
2. 실험 날짜 : 2021년 11월 18일 (목요일)
3. 실험 목적 : 반도체 공정의 기초가 되는 Photo-lithography의 원리를 이해할 수 있다.
Micro(㎛) 스케일의 패턴을 제작하고, 패턴 스케일을 측정할 수 있다.
Photoresist(PR)를 이용하고 역할을 이해할 수 있다.
4. 시약 및 기기
- Si wafer (2.5 x 2.5 cm), 비커 / 피펫, Acetone, IPA (Isopropanol), Sonicator, Spin coater, Photoresist (AZ-5214), Hot plate, Aligner, Photomask, Developer (AZ-300 MIF), 3D Profiler
참고 자료
없음