"Thermal plasma" 검색결과 201-220 / 566건

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  박막제조기술

  evaporation DC or RF sputtering Pulsed Laser Depostion Ion Beam sputtering Thermal CVD Plasma enhanced ... Annealing Epi growth 박막형 집적회로 제작 박막 증착 공정 PVD : Physical Vapor Depostion CVD : Chemical Vapor Deposition Thermal ... Not all components are found in all CVD systems CVD overview (II) Types of CVD reactions Pyrolysis – thermal

  리포트 | 24페이지 | 2,000원 | 등록일 2009.03.25

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  CVD(화학기상증착) 공정

  PECVD is faster than thermal CVD in same temperature. ... Plasma-Enhanced CVD (PECVD) In this process, radio frequency (RF) is used to induce plasma in the deposition ... CVD processes that utilize plasma to enhance chemical reaction rates of the precursors.

  리포트 | 8페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.02.06

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  전기치료학_정리

  (plasma)- 대전된 기체 /전기가 통함 ★.변위전류(displacement current)-절연체내에서 흐르는 전류 ★.전압[V]- 전기적인 위치 에너지/ ★.전압의 차이를 전위차 ... 열효과(Thermal Effect) ★.직접효과/ 줄의 법칙에서 일어남(인체조직의 전기적 저항에의해 열발생) ★.간접효과/전환열에서 일어남(분자들의 충돌, 분자들의 요동쳐서 열을 전환한다 ... (전자기파) 전한열(전기E - 열E로 바꾸는 것) ★.전도전류-접촉했을 때 전기가 도체에 흐름 ★.이온전류(=대류전류)양이온은 음극으로, 음이온은 양극으로 전류 흐름/프라즈마 ★.플라즈마

  리포트 | 4페이지 | 5,000원 | 등록일 2012.01.21 | 수정일 2020.01.23

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  ZnO

  반응 에너지원에 따라 Thermal CVD Plasma CVD Proton DVC Laser CVD 반응실의 형태에 따라 원료 물질에 따라 가열 정도에 따라 3.

  리포트 | 28페이지 | 2,500원 | 등록일 2012.05.07

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  Pulsed Laser Deposition

  deposition Pulsed Laser Deposition Vapor phase deposition Physical Vapor Deposition Sputter E-beam/Thermal ... Metal-Organic Chemical Vapor Deposition Set up for PLD Electronic excitation E vaporation Ablation Plasma

  리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.01.17

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  용접법의 종류 및 특징

  플라즈마(Plasma) 아크를 냉각하는 것에 따라서 에너지 밀도가 크게 되는 효과를 플라즈마 (Plasma)아크의 THERMAL　PINCH(열집중)효과라고 한다. (10) 일렉트로 ... 따라서 플라즈마(Plasma) 아크의 중앙부는 전류밀도가 증대하고 그 결과, 주울(JOULE)열이 증대해서 큰 에너지 밀도의 높은 플라즈마(Plasma)가 형성된다. ... 아-크(Plasma ARC)의 발생원리 플라즈마(Plasma)는 노즐 내 전극봉의 위치로 인하여 TIG(티그)와 같은 접촉형태로 아크를 발생시키지 못하며, 따라서 파일로트 아크(PILOT

  리포트 | 20페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.09.29

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  deposition 방법

  deposition 방법 화학 기상 증착법 (CVD) - 저압 화학 기상 증착 (Low Pressure CVD, LPCVD) - 플라즈마 향상 화학 기상 증착 (Plasma Enhanced ... Sputtering process의 가장 우수한 특성은 증착된 물질의 기상으로의 이동이 chemical, thermal process가 아니라 physical momentum exchange ... CVD법으로 증착 할 때 물질에 따로 다소 저온도 가능하지만 이 저온이란 것도 CVD에서는 500도 정도를 저온이라고 지칭합니다 ** PECVD : Plasma Enhanced -

  리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.06.05 | 수정일 2013.12.01

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  Design Project for LED fabrication process- 조명 White LED 제작 공정

  ) RTA(Rapid Thermal Annealing) CHIP PROCESS Equipment E-Beam Evaporator N 형 전극 형성 방법 투명전극부터 n- GaN 층까지 ... 동안 열처리 해주는 공정 가공환경의 여러 변수들을 제어하기 쉬움 온도를 빠르게 가열 또는 냉각 ⇒ 열 소모비용 크게 줄일 수 있음 ICP-RIE(Inductively Coupled Plasma

  리포트 | 39페이지 | 3,000원 | 등록일 2014.03.26

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  탄소나노튜브(CNT)

  CVD법은 열 CVD법, DC 플라즈마 CVD법, RF 플라즈마 CVD법, 마이크로파 플라즈마 CVD법으로 구분할 수 있다. ... 열화학 기상증착법(Thermal Chemical Vapor Deposition) 5. 레이저 증착법(laser vaporization) 6. ... 표시소자로 이용되어 온 CRT(cathode ray tube)의 뒤를 이어서 LCD(liquid crystal display), LED(Light emitting diode), PDP(plasma

  리포트 | 15페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.11.02

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  반도체 공정의 이해

  Sol-gel : TEOS 라는 용매액을 사용해 액체를 젤로 다시 젤을 고체물질로 변화시켜 막을 형성 Sputtering( DC/RF/magnetron ) Evaporation( Thermal ... 진공챔버내에 Ar 같은 기체를 넣고 음극에 전압을 가하면 음극으로부터 방출 된 전자들이 Ar 원자와 충돌하여 Ar 을 이온화시킨다 .( glow discharge ) 그러면 서 플라즈마상태가 ... /E-beam ) LPCVD( Low pressure CVD ) PECVD( Plasma Enhanced CVD ) Wet Oxidation Dry Oxidation PR( photoresist

  리포트 | 29페이지 | 3,500원 | 등록일 2011.11.18

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  MOS소자

  에너지에 따라 : thermal CVD, plasma enhanced CVD, photo CVD, lasetter : DC Sputtering과 유사. ... concentration, surface status, pressure, temperature, time (3) Deposition 1) 화학적 기상 증착법(CVD) : 기상의 소스를 열, 플라즈마 ... 음극에 영구 자석을 장착하여 target 표면과 평행한 방향으로 자장을 인가하여, Plasma가 target 표면의 매우 가까운 곳에 유지, 증착속도 향상. (4) 사진식각공정(Photo-lithography

  리포트 | 11페이지 | 1,500원 | 등록일 2010.07.04 | 수정일 2016.04.25

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  [공학]【A+】반도체공정기술[단위공정]

  Thermal oxidation wafer를 석영관에 넣는 과정. -다량의 N2 와 소량의 O2 분위기 속 · 2단계 ; 산화막 성장 과정 → 산화막 두께 조절. ... 동일한 원자 배열을 갖는 단결정 층을 쌓는 것 · 불순물 원자를 인위적으로 첨가 (불순물 농도 분포를 조절가능) → 단결정층의 전기적 특성 조절 [4] 산화막 성장 (SiO2 ; Thermal ... 원자핵(+전하) + 여러 개의 전자(-전하) 로 구성 ; 전기적 중성 다른 전자 (예) 열전자) SiO2 + 2H2 2PH3 + 4O2 → P2O5 + 3H2O C) PECVD (Plasma

  리포트 | 28페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.07.15

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  박막의 제조방법

  플라즈마 보조 PVD(Plasma Assisted PVD)의 분류 ① DC 과정 (가) 다이오드 스퍼터링(Diode Sputtering) (나) 삼극 스퍼터링(Triode Sputtering ... 증착법(Chemical Vapor Deposition) 1) CVD의 정의 2) CVD 원리 및 과정 3) CVD의 성장기구 4) CVD의 특징 5) CVD 반응의 따른 분류 ① Thermal ... 전자로 방전을 유지할 필요가 없다. ③ 전자 source의 여기에 변화를 줌으로써 전압과 무관하게 전류를 변화시켜 이온 밀도를 높이고 낮은 전압 사용 가능 ④ 증착 속도 증가 ⑤ 플라즈마

  리포트 | 52페이지 | 3,000원 | 등록일 2006.12.06

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  PDMS Surface Modification in Microfluidic Devices

  CH3 Advantages Disadvantages Isotropic and homogeneous Chemically inert Optically transparent Good thermal ... O., Plasma and Polymers, 1998, 3, 23-34 Duffy, D. C.; McDonald, J.C.; Schueller, O. J. ... Surface Modification Methods of PDMS Oxygen plasma treatment - Duffy and Whitesides, 1998 - Gregory and

  리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.10.04

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  탄소나노튜브를 이용한 기술특허

  플라즈마 화학기상증착법 (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) 플라즈마 CVD는 열 CVD에 비해서 저온에서 탄소나노튜브를 합성시킬 수 있는 ... 열 화학 기상 증착법 (Thermal Chemical Vapor Deposition) 열 CVD는 화학 기상 증착법의 일종으로 탄소를 포함하는 반응 가스(C2H2, CH4, C2H4 ... 일반적으로 플라즈마 CVD에서 방전을 일으키는 전원은 직류(DC) 또는 고주파 전원의 두 가지로 구분된다.

  리포트 | 23페이지 | 3,500원 | 등록일 2011.11.27

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  탄소나노튜브 졸업논문

  Enhanced CVD 3.4 Thermal CVD 3.5 Vapor Phase Growth 4.탄소나노튜브의 응용기술 5.탄소나노튜브의 의학 및 약학 분야의 응용 6.향후전망 및 ... 전기적 성질 2.3.3 열적 성질 2.3.4 광학적 성질 2.3.5 결함 및 독성 3.탄소나노튜브의 합성 3.1 Arc Discharge 3.2 Laser Ablation 3.3 Plasma

  논문 | 41페이지 | 6,000원 | 등록일 2014.06.13 | 수정일 2014.06.22

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  [전자재료]Thermal Evaporation법을 이용한 박막의 제조 결과

  반대로 질소가스 등을 진공 용기에 약간 도입하여 공간에 질소 플라즈마를 만들어 증기로 된 티타늄 등 금속 원장에 반응시키고, 기판에 증발원에 대하여 양의 고전압을 걸어 질화티타늄 등의 ... 결 과 Thermal Evaporation법을 이용한 박막의 제조 1. ... 도금의 종류에는 전해 도금과 무전해 도금이 있으며 thin film HIC에는 주로 전해 도금이 이용된다. 2-3 열증착 thermal evaporation Thermal Evaporator는

  리포트 | 9페이지 | 2,500원 | 등록일 2011.03.15

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  [발광디스플레이 실험] CNT소자의 제작과 특성평가

  . - 부산물(toxic, corrosive)의 중성화로 처리로 인한 비용이 증가된다. ④ CVD의 분류 - 반응에너지원-Thermal CVD, PE CVD(Plasma Enhanced ... 이용한 PECVD는 플라즈마에 의해서 Ar*(rad 발광하였다 7. ... LP CVD(Low Pressure CVD) - 원료물질-MOCVD(Metal Organic CVD) ⑤ PECVD 그림 SEQ 그림 \* ARABIC 29 PECVD의 개략도 플라즈마를

  리포트 | 16페이지 | 5,000원 | 등록일 2011.12.28

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  반도체소자와공정-1

  물리 기상 증착법(PVD) 전자빔이나 플라즈마를 이용하여 증발된 금속원자를 wafer 표면에 증착시키는 기술이다. ... 분자 빔 에피텍시얼(MBE:Molecular beam epitaxy) 1) MBE는 초고 진공 상태에서 결정 표면에 분자 또는 원 자의 하나 혹은 그 이상의 열 빔(thermal beam ... 건식 식각 1) 플라즈마를 이용하여 wafer 표면을 물리적으로 식각 2) 식각속도가 빠르며 높은 재생, 패턴 전사를 얻기 위해 사용된다. 5) 확산공정과 이온주입공정 반도체 기판

  리포트 | 21페이지 | 3,000원 | 등록일 2012.04.21

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  [예비 / 결과레포트] 열 전도도 측정 실험

  Conduction takes place in all forms of matter, viz, solids, liquids, gases and plasmas, but does not ... of thermal conductivity. ... thermal conductivity, each of them suitable for a limited range of materials, depending on the thermal

  리포트 | 10페이지 | 1,500원 | 등록일 2009.12.23

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