"Thermal plasma" 검색결과 121-140 / 566건

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  반도체공정실험 예비보고서(Metal deposition)

  Ar이 excite 되면서 전자를 방출하면, 에너지가 방출되며, 이때 glow discharge가 발생하여 이온과 전자가 공존하는 보라색 계통의 plasma를 보인다. plasma내의 ... PVD에 해당하는 증착법에는 스퍼터링(Sputtering), 전자빔 증착법(E-beam evaporation), 열증착법(Thermal evaporation), 레이저 분자 빔 증착법 ... The evaporator (vacuum system) deposition system Thermal evaporation은 그림 2와 같이 진공상태에서 증착하고자 하는 물질에 열을

  리포트 | 3페이지 | 5,000원 | 등록일 2014.09.23 | 수정일 2021.04.11

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  진공 증착의 종류와 특징 레포트[A+자료]

  반도체, OLED 등 우리 주변에서 ‘증착’을 이용하여 만들어진 제품을 많이 찾을 수 있다. 증착은 가정에서도 볼 수 있는데, 백열전구가 오래되면 필라멘트와 가까운 전구의 유리 벽이 검게 변하는 현상을 볼 수 있다. 또한 사용한지 오래된 형광등은 양쪽 전극 부위가 검게..

  리포트 | 4페이지 | 2,000원 | 등록일 2015.12.17 | 수정일 2016.12.26

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  플라즈마 공정으로 구상화된 티타늄 분말과 금속사출성형 공정을 이용한 치과용 부품 제조

  한국분말야금학회 곽지나, 양상선, 윤중열, 김주용, 박성진, 김현승, 김용진, 박용호

  논문 | 7페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

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  용액 플라즈마 공정을 이용하여 제조된 금 나노유체의 특성평가 (Synthesis and Characterization of Glold Nanofluid Prepared by the Solution Plasma Processing)

  한국분말야금학회 허용강, 이상율

  논문 | 5페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.01 | 수정일 2023.04.05

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  TIG(GTA)용접, 아크정의, GTA용접전원과 극성, 보호가스의 종류와 특성, 다양한 보호가스의 종류와 특성, 용접공학

  가스(파이롯 가스)3~5% 수소 혼합가스 사용으로 THERMAL PINCH(열집중) 효과를 얻을수 있습니다. ... 일반적으로, 수소(분자,원자,이온)는 대단히 가벼우므로 플라즈마안에서 바깥으로 분리하려는 특성을 가지고 있 ... 스텐레이스강인 경우 Ar+O²(1%): Arc의 안정성이 증가하고 용융금속의 유동성이 좋아 용융지 조성이 좋고 융합이 좋고 bead형상이 좋다. (6) 플라즈마의 보호가스 * 사용

  리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2016.11.01

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  PLED 소자제작 (논문)

  RF 플라즈마의 경우 산소, 아르곤 가스 등 불활성 기체에 RF파워를 인가시켜 생성된 플라즈마를 이용하여 다음 그림3-2와 같이 수소나 산소 아르곤 기체를 사용하여 라디칼 형성을 하는 ... IPA(20분) → DI rinse(10분)→질소로 물기제거→Hot plate 건조(110℃, 10분) → UVO Cleaning(10분) 다음 과정에서 UVO Cleaner와 RF Plasma를 ... 발광층과의 섞임 현상을 PSS가 친수성 성질을 이용하여 차단해줌으로서 방지해주는 역할을 한다. 3.3.2 EIL 및 전극 증착 1) EIL과 전극물질을 증착하기 위하여의 열증착기(Thermal

  리포트 | 10페이지 | 1,500원 | 등록일 2016.06.27

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  하수 슬러지 처리용 플라즈마 반응기에서 황화수소 농도에 따른 시스템 반응 특성

  한국냄새환경학회 황현정, 안해영, 송지현

  논문 | 5페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.01 | 수정일 2023.04.05

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  PVD 원리와 종류

  마찰저항 감소 - 화학적 안정성 및 비반응(Chmically stable and inert) - 소착 및 융착 억제 (Low stick and weld) - 낮은 열전도도 (Low Thermal ... 진공 증착법 이외의 두 개의 기본방법은 플라즈마를 적극적으로 이용한다. 즉, 이온과 활성입자를 이용하여 밀착력 등이 향상된다. ... 플라즈마 상태로 여기된 물질은 빠른 속도로 피도금체에 붙어 강하고 치밀한 막을 형성한다. 이때 반응성 가스를 첨가하여 질화물,jt

  리포트 | 14페이지 | 2,000원 | 등록일 2015.07.27

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  탄소나노튜브

  화학기상증착법 (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) 장점: 열CVD보다 저온에서 탄소나노튜브의 합성이 가능 플라즈마 방식: 방전 공간을 전극 ... 막을 균일하게 성장시키기 위하여 마주 보는 전극으로부터 원료기체를 내려오게 하는 경우가 대부분임 반응기체: C2H2, CH4, C2H4, C2H6, CO · 열화학 기상증착법 (Thermal ... 또한 전류는 안정된 플라즈마를 유지할 수 있는 범위 내에서 가능한 한 낮은 값을 갖는 것이 좋음. · 레이저 증착소나노입자가 섞여있다.

  리포트 | 9페이지 | 2,000원 | 등록일 2010.04.23

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  산성도금폐수 감압증발 과정에서 발생하는 악취물질 제거를 위한 습식저온플라즈마의 적용

  한국냄새환경학회 안해영, 김진성, 송지현

  논문 | 8페이지 | 4,000원 | 등록일 2017.01.04 | 수정일 2023.04.05

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  CVD method를 통한 ZnO NWs synthesis 예비보고서[1].

  Thermal CVD : Resistance heating or RF induction heating ? ... PECVD (Plasma Enhanced CVD) : RF (13.56 MHz) or microwave (2.45 GHz) ? ... ☆열, RF 전력에 의한 플라즈마 에너지, 레이저 또는 자외선의 광 에너지성의 박막을 쉽게 얻을 수 있음. ★CVD 단점: ? 기판과 증착 재료간의 열팽창 계수차이 고려. ?

  리포트 | 11페이지 | 2,000원 | 등록일 2015.07.26 | 수정일 2022.09.02

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  PVD

  Plasma - 충돌하는 입자가 임계치 이상의 에너지를 가져야 함 . - 플라즈마 유지하기 위해 각 입자들 사이에 적당한 충돌 회수 보장 . → 압력 ( 압력이 높으면 충돌할 수 ... 양전하의 이온과 음전하의 전자들이 다수 모여 군집활동을 하며 이온들의 수와 전자들의 수가 거의 같아 전체적으로 전기적 중상 상태를 유지하게 된다 . 46 Plasma 플라즈마 내에서의 ... 증착 재료를 놓고 증발원에 전류를 흘려 가열하여 증발 시킴 . 8 저항 가열식 진공증착법 (Thermal- heating evaporation) 증발원재료 선택시 고려해야 할 점 1

  리포트 | 77페이지 | 3,000원 | 등록일 2012.12.24

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  진공 및 박막의 전제척인 개념 및 박막의 3가지 성장모델, CVD & PVD 비교 정리

  RF 플라즈마는 부도체도 스퍼터링이 가능하고 DC 플라즈마보다 더 고밀도의 플라즈마라서 스퍼터링 효율이 높고 증착조절이 좋다. ... RF 플라즈마 에너지가 강하기 때문에 진공범위가 DC 플라즈마에 비하여 넓다. 대신 가격이 DC 스퍼터링 보다 더 비싸다. ... Thermal evaporation의 장,단점은 장치구성이 간단하고 모든 물질에 쉽게 적용이 가능하고 원리가 단순하다는 것이다.

  리포트 | 8페이지 | 6,500원 | 등록일 2013.04.22 | 수정일 2022.11.21

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  건축설비 기초

  열용량이란 비열에 물체 중량을 곱한 것 실험 유체(流體) 물질의 狀態 고체(solid), 액체(liquid), 기체(gas), (플라즈마 plasma) 유체(流體, fluid) 액체와 ... 현열(顯熱, sensible heat) 온도 변화에 따라 출입하는 열 잠열(潛熱, latent heat) : 상태(狀態) 변화에 따라 출입하는 열 물질의 상태 고체, 액체, 기체, 플라즈마 ... 대기압 하에서 순수한 물 1kg의 온도를 14.5℃에서 15.5 ℃까지 올리는 데 필요한 열량 열의 일당량 : 1cal = 4.1868J (약 4.2J) 1 BTU(British Thermal

  리포트 | 45페이지 | 4,000원 | 등록일 2014.01.27

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  기계적 혼합에 의한 플라즈마 용사용 ZrO2-Y2O3 분말의 제조 및 특성

  한국재료학회 한진원, 곽찬원, 우기도

  논문 | 6페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

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  Type별 Scrubber 원리 및 반도체 공정,반도체 Gas 특성

  , Burn Wet Type, Plasma Type 등이 있음 ［Burn-Wet Type Scrubber］ Scrubber의 종류 및 특징 구 분 Wet Dry Thermal WET ... ］ 순환 pump N2 Inlet Wet 처리 Water tank PFCs Inlet Gas Outlet Drain N2를 주입하여 Thermal Plasma를 발생시킴 으로써 PFCs를 ... 설계함 Mask (RETICLE)제작 설계된 회로패턴을 E-beam을 이용하여 유리판 위에 그려 Mask를 만듦 웨이퍼 제조 및 회상 에칭 HCl, HF, HBr, SF6, Cl2 플라즈마

  리포트 | 23페이지 | 3,000원 | 등록일 2010.02.26

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  GaN의 식각

  PE(plasma enhanced)-CVD는 chamber 내에 플라즈마를 형성시켜 반응을 원활히 하고, 증착을 돕는 박막 합성 방법이다. 2. ... PVD에 해당하는 증착법에는 스퍼터링 (Sputtering), 전자빔증착법 (E-beam evaporation), 열증착법 (Thermal evaporation), 레이저분자빔증착법 ... 집단을 플라즈마라고 하고 그 물리적인 성질을 연구하는 것이 플라즈마 물리학이다.

  리포트 | 10페이지 | 2,000원 | 등록일 2014.05.22

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  NBTI_presentation

  3 Plasma Nitridation N Implantation 1. ... Sunghil , Samsung electronics, Transistor process technology Boron penetration at high thermal budget ... Nitridation N-well Nitridation of SiO 2 Thermal Nitridation Chemical Physical Nitridation N 2 O NO NH

  리포트 | 9페이지 | 1,500원 | 등록일 2014.08.18

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  전자 주사 현미경 구조

  etching : thermal groove의 형성을 이용 optical etching : ex. polarizing microscope 사용 4가지로 나누며 이외에도 많은 종류의 ... 조제한 뒤 연마된 시편 표면을 에칭 액에 담가 부식을 일으키게 함. electro-etching : 전해 연마와 같은 방법이나 조건을 다르게 하여 선택적인 부식이 일어나도록 함. thermal ... 원리 & 스퍼터 코팅의 효과 -플라즈마의 원리 플라즈마를 제 4원소라고 한다.

  리포트 | 3페이지 | 1,500원 | 등록일 2013.03.29

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  반도체 솔라셀 기말발표

  Plasma Etching - plasma 속에서 발생된 반응물질의 화학작용에 의한 식각하는 방식 웨이퍼 가공공정 . 이것만 기억하라 Part 2. ... Oxide Etch – 산화 식각 플라즈마상태의 이온을 떨어뜨려 Silicon Dioxide 를 깍아낸다 . ... 플라즈마상태란 기체상태에서 더 큰 에너지를 주어 이온상태가 되는 것이다 . 즉 H2O 상태가 H2 와 O2 로 나뉘어 H+, O- 상태를 갖게 된다 . STEP 7.

  리포트 | 32페이지 | 1,000원 | 등록일 2013.01.23

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