"스퍼터링" 검색결과 101-120 / 807건

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  [공학]진공과학, 플라즈마, CVD, 스퍼터링, 진공증착

  1. 진공 [眞空, vacuum] 이란?? 간단히 말해서 진공은 물질이 전혀 존재하지 않는 공간이라고 할 수 있다. 실제로는 완전한 진공을 만들기가 매우 어렵기 때문에 보통 1/1000(10-3)㎜Hg 정도 이하의 저압을 진공이라 한다. 진공으로 만든 용기 내에 남아 ..

  리포트 | 10페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.04.17 | 수정일 2022.03.09

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  [박막 공정] 박막공정(스퍼터링, CVD)

  효율에 영항을 미치는 인자 : 이온에너지, 이온 조사 각도, 이온종류 ▶ 스퍼터링 공정 장치 개발 1 스퍼터링 속도 향상 2 타겟 면적 증가 3 모재의 플라즈마 가열 저하 4 가스 ... ▶ 스퍼터링의 정의 활성화된 가스이온으로 고체표면을 충격하여 에너지 이전에 의해 표면 원자를 물리적으로 축축하여 다른 고체표면에 도금하는 공정. ▶ sputtering의 발생 glow ... 표면반응 : flux arrive → nuclei sizes grow → islands form and grow → coalesce → form a continuous film ▶ 스퍼터링

  시험자료 | 5페이지 | 6,900원 | 등록일 2004.06.15 | 수정일 2014.06.30

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  증착법, 스퍼터링, 박막 공정 (THIN FILM PROCESS)의 기초

  Thin Film Processing 목 차 박막 증착 물리 기상 증착법(PVD) 화학 기상 증착법(CVD) 개 요 개 요 박막 공정의 정의 박막 증착과 포토리소그래피 기술을 이용하여 원하는 형상의 회로를 형성하는 일련의 과정을 말함. 박막 공정 과정 이 외에도 부가..

  리포트 | 41페이지 | 5,000원 | 등록일 2007.10.17 | 수정일 2014.08.27

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  [반도체공학] 반도체 공정 및 스퍼터링

  반도체공정 Sputtering 결과 반도체 제조 과정 1 1. 단결정성장 고순도로 정제된 실리콘 용융액에 시드(Seed) 결정을 접촉, 회전시키면서 단결정규소봉(Ingot)을 성장시킴. 실리콘 단결정의 제조 - 초크랄스키법(Pulling Method=인상법), 플롯존..

  리포트 | 22페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.11.05

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  [물리]스퍼터링에 의한 박막 증착, 예비보고서

  일 때 스퍼터링된 원자수 [원자수/ ]는 로 표현하 수 있으며, 스퍼터링 증착률 [m/s]은 가 된다. ... 나오는 이온빔으로 스퍼터링시키는 방법이다. ... 플라즈마를 생성하는 RF 스퍼터링을 사용한다.

  리포트 | 23페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.09.03

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  [물리]스퍼터링에 의한 박막 증착, 결과보고서

  실험 요약 본 실험은 아래의 스퍼터링 장비를 사용하여 그림 스퍼터링 시스템의 구조 실리콘 기판에 구리 박막의 증착시키는 실험이다. ... 그림 스퍼터링의 모델도 스퍼터링 증착법은 이와 같은 스퍼터 현상으로 방출된 타겟 원자를 기판 위에 수송하여 박막을 형성하는 기법이다. ... 타겟을 cathode로 하여 스퍼터링 할 때 주파수가 10 MHz 이상 되어야 효과적인 스퍼터링이 일어난다. 대체적으로 13.56 MHz, 27.12

  리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.09.03

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  [공학기술]박막증착 기술보고서<스퍼터링&CVD>

  이론적으로 배웠던 스퍼터링의 종류에 DC planar diode 스퍼터링, Triode 스퍼터링, Magnetron 스퍼터링, RF 스퍼터링, Ion beam 스퍼터링 기술 등이 있다 ... 이와 같은 스퍼터링 공정 중 대표적인 스퍼터링 기술은 Magnetron 스퍼터링법 이라고 할 수 있는데 Sputtering Target 뒷면에 자장을 인가하여 Plasma 내의 전자가 ... 박막증착이 특히 핵심적인 분야인 반도체 산업에서는 RF 스퍼터링 혹은 Ion beam 스퍼터링 기술을 이용해왔으나 최근에 엑시머 레이저를 이용한 방법도 개발을 하고 있다. 3.

  리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.06.14

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  [공학기술]박막 공정,PVD,증착,진공증착,스퍼터링 보고서

  스퍼터링- 음극스퍼터링(cathode sputtering)24p 4.4.1. 직류스퍼터링(DC sputtering)34p 4.4.2. ... 고주파 스퍼터링(RF sputtering)37p 4.4.3. 반응성 스퍼터링(reactive sputtering)38p 4.4.4. ... 마그네트론 스퍼터링은 플라즈마를 타겟 주위로 구속하기 때문에 이러한 관점에서는 불리하다.

  리포트 | 70페이지 | 3,000원 | 등록일 2007.08.16

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  [박막] RF 마그네트론 스퍼터링을 이용한 ZnO박막에 관한 연구

  RF 마그네트론 스퍼터에서는 RF 전력을 증가 시킴에 따라 타게트의 스퍼터링율(sputtering yield)이 커지고, 타게트에 대한 이온 전류 밀도가 커지므로 스퍼터링 되는 속도가 ... 이는 기판 온도의 상승 효과 보다는 높은 RF 전력에 의해 스퍼터링된 입자들이 고에너지를 갖고 기판에 도달했기 때문이다. ... 일정한 알곤 압력 조건하에서 RF 전력의 증가에 따라서 스퍼터링율과 타게트에 대한 이온 전류 밀도의 증가로 증착속도는 증가하고 있었다.

  리포트 | 17페이지 | 3,500원 | 등록일 2004.12.05

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  CVD ( chemical vapor deposition ) 법,섬들의 성장과 합체,에피탁시얼막 ,스퍼터링

  바이어스 전압을 걸어주고 스퍼터링 게터 스퍼터링 : 활성기체인 Ar+가 막내에 들어오지 못하게 하는 문 제를 해결하기 위해 게터링하는 방법 사용 반응성 스퍼터링 : 음극물질과 O2 ... 스퍼터링 (1) 음극스퍼터링 비대칭 교류전압 : 비대칭 교류전압을 전원으로 적용된 것 바이어스 스퍼터링 시스템 : 도체 기판위에 시편을 놓고 양극과는 절 연시키고,그 시편에 약-100V의 ... : 타겟 주위에 자장터널을 만들어 주어서 작동 기체의 이온화율을 높여서 스퍼터 효율을 크게 하는 것 (2) 저압음극스퍼터링 - 보조 고주파 스퍼터링 보조 고주파 전원을 사용하여 더

  리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.12.09

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  [반도체] rf 마그네틱 스퍼터링으로 증착된 Zno의 온도에 따른 변형거동

  RF Magnetic Sputterring에 의해 증착된 ZnO-AL박막의 증착온도 변화에 따른 변형거동 관찰 1. 결과 및 고찰. 증착온도의 변화에 따른 결정구조의 변화 각기 다른 성장온도에서 증착된 박막의 SEM 결과는 상온증착 시편에서는 표면에 특별한 규칙성이 보..

  리포트 | 5페이지 | 2,000원 | 등록일 2005.01.13

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  재료공학실험(세라믹) 최종 보고서

  파워를 계속 증가시키면 양이온이 타겟 전체에 일정하게 충돌하여 스퍼터링이 잘 일어나게 된다. ... 따라서 원활한 스퍼터링을 위해선 높은 파워(전원)과 적당한 챔버 내 가스 압력이 필요하다. ... 실험 목적 Magnetron 스퍼터링을 이용하여 각각의 웨이퍼에 재료를 증착시킨 후 박막 형성 결과에 대한 다양한 특성 평가를 진행한다. 2.

  리포트 | 12페이지 | 2,000원 | 등록일 2022.09.08

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  반도체 공정 term project

  이러한 현상을 물리학에서는 “sputtering”이라고 말한다. 1)DC 스퍼터링 1. ... 사용 및 응용분야 스퍼터링 방법의 응용분야 및 생산제품 분 야 생 산 제 품 기 계 용 공구용 고경도 코팅, 고체 윤활제, 비행기 엔진부품, 착륙기어, 자동차 엔진 부품 전 자 용

  리포트 | 11페이지 | 5,000원 | 등록일 2023.06.22

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  Evaporator_Sputter 레포트

  DC 스퍼터링에서는 타켓이 산화물이나 절연체일 경우에는 스퍼터링이 되지 않으나, RF 스퍼터링에서는 해결이 가능하고 낮은 Ar 압력에서도 플라즈마가 유지될 수 있다. ... RF 스퍼터링은 교류 전원을 이용한 증착 방식이다. ... 또한 자성이 있는 재료(Co, Ni 등)의 스퍼터링 시 자기장이 타겟 바깥쪽으로 나오기 힘들다는 단점이 있다.

  리포트 | 7페이지 | 2,500원 | 등록일 2021.11.08

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  [재료공학실험]투명전극재료의 합성 및 물성 평가

  스퍼터링 방법에는 DC 스퍼터링과 RF 스퍼터링 두 종류가 있는데, 우로 가속되어 가면서 carrier gas인 Ar 입자를 만나 Ar을 양이온으로 만들고, 양이온이 된 Ar이 타겟 ... 일반적으로 박막의 제작에는 저항 가열법(thermal evaporation) 과 전자선 가열법(eletron beam evaporation) 그리고 스퍼터링(sputtering) 법의 ... 스퍼터링(Sputtering) 투명전도체 박막을 제작하는 가장 일반적인 방법으로, 진공중에서 방전에 의해 플라즈마를 발생시키고, 이 플라즈마 중의 양이온이 부전극의 타켓 표면에 가속

  리포트 | 6페이지 | 2,500원 | 등록일 2022.02.20 | 수정일 2022.02.22

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  CMOS 제조 공정 실험 레포트(예비,결과)

  스퍼터링 증착은 증착 속도는 낮지만 견고한 박막을 형성시킬 수 있고, 접착력이 우수하다. 게다가 모든 물질에 증착이 가능하기 때문에 스퍼터링을 많이 이용한다. ... 금속화의 방법에도 필라멘트 증착, 전자빔(e-beam), 스퍼터링 증착이 있다.

  리포트 | 6페이지 | 2,500원 | 등록일 2021.11.08

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  신소재프로젝트3 광전자 A+ 예비레포트

  이러한 교류 전원을 인가전원으로 사용하는 스퍼터링법을 교류스퍼터링(RF sputtering)법이라 한다. ... 마그네트론 스퍼터링(magnetron sputtering)이란 발생된 플라즈마를 영구자석에서 발생하는 자속(flux)에 의해 집진하여 기판에 성막시키1 ... 여기서 인가된 전원이 직류(direct current, DC)일 경우를 직류스퍼터링법(DC sputtering methode)라 하며 일반적으로 전도체의 sputtering에 사용된다

  리포트 | 14페이지 | 3,000원 | 등록일 2023.10.07

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  한양대 신소재공학부 대학원 학업계획서

  대학원 OOO 교수님의 OOOOO 연구실에서 유연한 비대칭 슈퍼커패시터를 위한 3차원 자립형 전도성 MnCO3@Graphene/CNT 네트워크 개발 연구, 고전력 임펄스 마그네트론 스퍼터링에

  자기소개서 | 1페이지 | 3,800원 | 등록일 2022.09.30

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  ReRAM 실험 예비레포트

  그들은 유연한 poly[ethylene naphthalate] (PEN) 기판에 스퍼터링 방법으로 IGZO 반도체 층을 형 성하였다.

  리포트 | 12페이지 | 2,500원 | 등록일 2021.11.08

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  [기초공학실험]Cu film의 전기적 특성 분석 실험

  RF Sputtering DC sputtering에서는 target이 산화물등 절연물체일 때는 스퍼터링이 되지않는다. ... 그러나 고주파(RF : radio frequency)를 사용하면 절연체도 스퍼터링이 되며 1/1000 ~ 1/10000 torr 같은 저압에서도 플라스마가 유지될 수 있다. ... 장점 - 구성이 간단하며 각 물질의 스퍼터링량이 target 물질의 면적비와 대차가 없으므로 응용범위가 넓다. - 성. - 타깃은 판상으로 해야 한다. - 기판이 과열되기 쉽다. ②

  리포트 | 8페이지 | 3,200원 | 등록일 2019.09.02 | 수정일 2020.08.10

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