"RF magnetron sputtering technique" 검색결과 1-20 / 238건

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  Fabrication and Electric Properties of LiNbO3 Thin Film by an Rf-magnetron Sputtering Technique Li-Nb-K-O Ceramic Target (Rf-magnetron sputtering 방법으로 Li-Nb-K-O 세라믹 타겟을 사용하여 제작한 LiNbO3박막의 제작 및 전기적 특성)

  한국재료학회 한국재료학회지 Park, Seong-Geun, Baek, Min-Su, Bae, Seung-Chun, Gwon, Seong-Yeol, Kim, Gwang-Tae, Kim, Gi-Wan

  논문 | 5페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

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  반도체 공정 term project

  DC/RF sputtering Abstarct(혹은 초록) Sputtering은 Chamber내에 공급되는 가스에서 발생되는 전자 사이의 충돌로부터 시작된다. ... RF Sputtering방법은 target이 금속 이외에도 비금속, 절연체, 산화물, 유전체 등의 sputtering이 가능하며 주로 13.56MHz의 고주파 전원을 사용한다. ... DC sputtering은 코팅으로 사용될 target material에 이온화 된 가스 분자가 충돌하여 원자가 플라즈마로 sputtering되는 PVD(Thin Fi Ar가스 기체가

  리포트 | 11페이지 | 5,000원 | 등록일 2023.06.22

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  [신소재공학실험]박막 실험

  결과 분석 RF - Magnetron Sputtering system의 값은 다음과 같이 나타났다. ... 등을 Monte Carlo 방법으로 추적하여 sputtering 현상을 유추해 보았다. sputtering현상을 살펴보기 위해 magnetron sputter내 플라즈마밀도, 전자온도 ... 실험 배경 현재 magnetron sputter는 반도체, LCD 등을 포함하는 microelectronics 산업에서 박막 형성을 위한 주요 장비로 널리 쓰이고 있으며, 소자의 고집적화

  리포트 | 9페이지 | 3,600원 | 등록일 2022.08.28

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  신소재프로젝트3 광전자 A+ 예비레포트

  마그네트론 스퍼터링(magnetron sputtering)이란 발생된 플라즈마를 영구자석에서 발생하는 자속(flux)에 의해 집진하여 기판에 성막시키1 ... 이러한 교류 전원을 인가전원으로 사용하는 스퍼터링법을 교류스퍼터링(RF sputtering)법이라 한다. ... RF sputtering법은 다른 디지털 회로의 noise 발생 원인이 될 수 있으므로 시스템적으로 noise filter나 절연체에 의한 차폐와 접지가 중요하다.

  리포트 | 14페이지 | 3,000원 | 등록일 2023.10.07

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  Evaporator_Sputter 레포트

  스퍼터링 방법에는 DC Sputtering, RF Sputtering, Magnetron Sputtering 등이 있다. ... RF 스퍼터링은 교류 전원을 이용한 증착 방식이다. ... 하지만, Magnetron 스퍼터링을 제외한 나머지에서 증착 속도가 낮고, 높은 에너지를 이용한 충돌에 의해 박막이 불균일하게 증착되고 Damage 발생 요인이 된다.

  리포트 | 7페이지 | 2,500원 | 등록일 2021.11.08

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  이공계(반도체,전기전자,화학공학 등) 대학원 교수님 컨택메일 예시

  SEM등의 측정장비와 RF Magnetron sputter, ALD, PECVD 등의 공정장비를 다뤄보고, 제작한 MOSCAP의 특성을 CET계산을 통해 분석하고 문제점을 찾아보았습니다 ... 추가로 bending, stretching 등의 external mechanical stress를 sensing하고 구조, 소재 변화를 통한 electrical properties ... 증가 또는 개선하는 연구, 또는 novel film stacking mechanism을 통해 soft/ flexible electronics에서 필연적으로 고려되어야 하는 요소들의

  자기소개서 | 2페이지 | 4,500원 | 등록일 2023.07.12 | 수정일 2023.07.18

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  투명전극(ITO)과 진공펌프 및 게이지와 스퍼터링의 종류들과 원리

  Reactive sputtering에 적합 ③DC/RF 마그네트론 스퍼터링 장치 기존 스퍼터링 방법에 자기장을 사용하면 마그네트론이라는 단어를 붙여 마그네트론 스퍼터링 방법의 특징을 ... Reactive sputtering : RF보다 불리함 -RF sputtering- a. 전도체, 절연체, 비금속, 유전체 b. ... 여기에서 산화물이나 질화물박막을 원하는 조성으로 증착하고 싶을 때 추가적으로 가스를 공급하여 반응을 일으킬 수 있는데, 이를 DC/RF 반응성 마그네트론 스퍼터링 장치로 한다. ④이온

  리포트 | 22페이지 | 2,500원 | 등록일 2019.07.03 | 수정일 2019.07.04

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  [기초공학실험]Cu film의 전기적 특성 분석 실험

  RF sputtering은 금속 이외에도 비금속, 절연체, 산화물, 유전체 등의 sputtering이 가능하다. ? ... 종류 ① DC sputtering 직류전원을 이용한 sputtering 방법이다. ... DC sputtering에서는 target이 산화물이나 절연체일 경우 sputtering되지 않는다.

  리포트 | 8페이지 | 3,200원 | 등록일 2019.09.02 | 수정일 2020.08.10

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  반도체 PVD 공정의 종류와 원리

  PVD의 종류 PVD 증착(Evaporation) 스퍼터링(Sputtering) DC Sputtering Bias Sputtering RF Sputtering Magnetron Sputtering ... ①Sputtering 과정 ②Sputtering 기본 원리 Plasma의 원리 Magnetron Sputtering의 원리 및 작동과정 설명 Magnetron Sputtering 장치 ... Valve on Ion gauge on - Chamber 내 진공 2x10^-6 Torr Ion gauge off MFC on/조절 Ar Gas 주입 - Ar Gas Valve 조절 RF

  리포트 | 9페이지 | 2,000원 | 등록일 2020.11.09

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  동우화인켐 자기소개서

  [본인의 역할] 저는 연구를 수행하면서 ZnO에 Al2O3를 도핑한 타겟을 만들었고 이를 이용해 RF magnetron sputtering 방법으로 박막을 제조하여 XRD, Hall ... [주요 결과] n-type의 Al(2wt%)로 도핑된 ZnO 박막을 RF-magnetron sputtering 법으로 유리 기판에 증착을 시켜 후열처리 조건에 따른 투명전극으로서의

  자기소개서 | 5페이지 | 3,000원 | 등록일 2019.06.10

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  [재료공학실험]투명전극재료의 합성 및 물성 평가

  마그네트론 Sputtering 법에 의한 ITO 박막의 합성 1) RF, DC, Pulse DC-Sputtering System으로 건조시킨 glass 기판 사용하여 합성 다. ... 일반적으로 박막의 제작에는 저항 가열법(thermal evaporation) 과 전자선 가열법(eletron beam evaporation) 그리고 스퍼터링(sputtering) 법의 ... 스퍼터링 방법에는 DC 스퍼터링과 RF 스퍼터링 두 종류가 있는데, 우로 가속되어 가면서 carrier gas인 Ar 입자를 만나 Ar을 양이온으로 만들고, 양이온이 된 Ar이 타겟

  리포트 | 6페이지 | 2,500원 | 등록일 2022.02.20 | 수정일 2022.02.22

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  삼성전자 설비기술 합격 자기소개서

  비전도성을 띄는 황동 필름의 증착을 위해 RF magnetron sputtering, 감지체 역할을 하는 황동 나노플레이크의 형성을 위해 열 산화과정을 적용했으며, 산화과정은 일반 ... 이처럼 E, S, G의 균형 있는 발전을 추구하여 존중 받고 존경 받을 수 있는 기업이 될 수 있다고 생각합니다.글자수 1,010자1,694Byte 4.지원한 직무 관련 본인이 갖고 ... 팀원들과 silane을 다공성 막에 얇고 균일하게 입히기 위한 방안을 모색하던 중, 반도체 공정의 박막증착법에서 아이디어를 얻어 연구실 내 감압장치를 활용하고 해결할 수 있었습니다.

  자기소개서 | 5페이지 | 3,000원 | 등록일 2023.02.06

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  부산대학교 졸업 논문 (Flexible Display용 PI기판 위 ITO 증착 시 Stage Temperature에 따른 특성 변화 연구)

  사용한 증착 장비는 DC/RF magnetron sputtering system이며, 측정 장비는 XRD, 4-point probe, UV-VIS spectrophotometer이다 ... 증착 장비로는 DC/RF magnetron sputtering system을 사용 했다. Table 1은 사전 실험 후 측정한 deposition rate를 보여준다. ... 또한, ITO가 다른 물질에 의해 오염이 되었을 수도 있으므로, pre-sputtering을 30분 동안 실시하였고, 증착이 완료된 시편은 알파스텝을 이용하여 두께를 측정했다.

  논문 | 6페이지 | 3,000원 | 등록일 2020.05.18

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  재공실 실험2 예보 - RF-Magnetron Sputter를 이용한 박막 증착 원리 이해

  Sputtering 마그네트론 스퍼터링(magnetron sputtering)이란 발생있다. ... DC magnetron sputtering이라 한다. ... 이러한 현상은 DC sputtering 의 경우 sputter 초기부터 target 뒷면의 영구자석을 회전시켜 주거나, 자석의 전류를 변화시키면 개선할 수 있다 ▶Magnetron

  리포트 | 6페이지 | 2,000원 | 등록일 2013.10.29

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  표면개질공학 sputtering 원리와 특징, 현상과 응용

  , RF plasma sputtering, magnetron sputtering등이 있다. ... 개략도-마그네트론의 제한과 전자궤도를 설명 앞에서 본 바와 같이 magnetron target은 전형적으로 ‘racetrack' 형태로 sputter 부식이 일어난다. → 고체 원판형 ... 규모를 크게 하기 어렵다 ④ Magnetron sputtering target(cathode)의 뒷면에 영구자석(CoSm, Alnoco)이나 전자석을 배열함으로써, 전기장에 의해(RF

  리포트 | 9페이지 | 1,000원 | 등록일 2016.01.05

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  RF reactive magnetron sputtering으로 제조한 TiO2 박막의 구조 및 광학적 특성

  한국재료학회 한국재료학회지 강계원, 이영훈, 곽재천, 이동구, 정봉교, 박성호, 최병호

  논문 | 6페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

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  재공실 실험2 결보 - RF-Magnetron Sputter를 이용한 박막 증착 원리 이해

  RF-Magnetron Sputter를 이용한 박막 증착 원리 이해 1. ... 작동원리의 차이점은 E-beam evaporator는 음극 필라멘트에서 직접 전자가 발생되어서 자기장을 이용해서 직접 전자가 타깃 물질을 쳐서 증발시켜 시편에 증착시키는 것이고, sputtering ... 그림에서 보이는 것처럼 shutter는 증착이가지 않도록 제어함으로써 증착시간을 조절해 주는 역할을 하며 substrate rotation은 chamber 위쪽에 달려있으며 기판을

  리포트 | 3페이지 | 2,000원 | 등록일 2013.10.29

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  [예비보고서] RF-Magnetron Sputter를 이용한 박막 증착 원리 이해

  RF Sputtering 장치> 마그네트론 스퍼터링(magnetron sputtering)이란 발생된 플라즈마를 영구자석에서 발생하는 자속(flux)에 의해 집진하여 기판에 성막시키는 ... 인가된 전원에 따라 RF·DC magnetron sputtering이라 한다. ... 이러한 교류 전원을 인가전원으로 사용하는 스퍼터링법을 교류스퍼터링(RF sputtering)법이라 한다.

  리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.07.21

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  RF-magnetron sputtering 기법을 이용한 박막형 강유전체의 특성평가

  실험 예비 REPORT ━━━━━━━━━━ (RF-magnetron sputtering 기법을 이용한 박막형 강유전체의 특성평가) 소 속 재료공학부 담당교수 교수님 학 년 3학년 ... RF sputtering ① Self bais : RF sputtering 에서 target의 반대편을 때리지 않는 까닭 시간이 흐르면 Ar+가 (-)극의 target에 달라 붙는다 ... 이 현상에 의해 실제 Plasma의 속도가 매우 크고, 극이 바뀌어도, palsmaplating 증착속도 빠름 (생산성↑) 느림 (magnetron sputtering도 evap보다

  리포트 | 13페이지 | 3,000원 | 등록일 2010.01.25

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  결과보고서 2. RF-Magnetron Sputter를 이용한 박막 증착 원리 이해

  RF-Magnetron Sputter를 이용한 박막 증착 원리 이해 신소재공학부 1. ... 단점으로는 성막속도( ... 이온으로 타겟을 재차 스퍼터하는 자기 스퍼터(self sputtering)라고 한다.

  리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.07.21

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