"rf sputter" 검색결과 1-20 / 320건

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  RF sputtering

  RF sputtering (1) sputtering plasma 발생 oscillating power source를 사용하므로 DC방법보다 많은 장 점이 있다. - 부도체재료를 sputter ... 거의 모든 물질이 RF discharge에서 sputter되지만, 생성된 막이 target의 조성과 반드시 일치하지는 한다. ... , modified RF magnetron sputtering 다음 두 가지 방법이 기본이다. (1) metallic cathode target은 깨끗한 금속표면으로 유지(화합물의

  리포트 | 12페이지 | 3,000원 | 등록일 2012.12.24 | 수정일 2013.11.17

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  RF reactive magnetron sputtering으로 제조한 TiO2 박막의 구조 및 광학적 특성

  한국재료학회 강계원, 이영훈, 곽재천, 이동구, 정봉교, 박성호, 최병호

  논문 | 6페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

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  RF magnetron sputtering법에 의해 제조된 SrBi2Ta2O9박막의 강유전 특성에 관한 연구

  한국재료학회 박상식, 양철훈, 윤순길

  논문 | 5페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

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  연속 ECR-CVD 조업하에 RF-magnetron-sputter의 싸이클조업을 통해 PET위에 올려진 구리박막의 특성

  한국재료학회 명종윤, 전법주, 변동진, 이중기

  논문 | 8페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

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  RF sputtering

  이러한 현상 때문에 부도체를 sputtering, etching 등을 할 때는 교류전원을 사용한다. ... Plasma(RF Sputtering) a. basic concept 플라즈마 상태는 고체, 액체, 기체 이외의 물질의 제4의 상태라고 불리워진다. ... 이론적으로 AFM은 stylus장비와 비슷하다고 볼 수 있다. 그러나 AFM은 원자수준의 분해능을 갖는 정밀한 측정 장비이다.

  리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.12.06

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  Fabrication and Electric Properties of LiNbO3 Thin Film by an Rf-magnetron Sputtering Technique Li-Nb-K-O Ceramic Target (Rf-magnetron sputtering 방법으로 Li-Nb-K-O 세라믹 타겟을 사용하여 제작한 LiNbO3박막의 제작 및 전기적 특성)

  한국재료학회 Park, Seong-Geun, Baek, Min-Su, Bae, Seung-Chun, Gwon, Seong-Yeol, Kim, Gwang-Tae, Kim, Gi-Wan

  논문 | 5페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

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  RF-magnetron sputtering 기법을 이용한 박막형 강유전체의 특성평가

  RF sputtering ① Self bais : RF sputtering 에서 target의 반대편을 때리지 않는 까닭 시간이 흐르면 Ar+가 (-)극의 target에 달라 붙는다 ... 실험 예비 REPORT ━━━━━━━━━━ (RF-magnetron sputtering 기법을 이용한 박막형 강유전체의 특성평가) 소 속 재료공학부 담당교수 교수님 학 년 3학년 ... target을 이용하여 substrate에 박막을 입히는 것이다. ② RF sputtering : 교류전지에서 플라즈마를 이용하여 Sputtering을 하는 방법으로 금속 target뿐만

  리포트 | 13페이지 | 3,000원 | 등록일 2010.01.25

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  RF Sputter를 이용한 InGaZnO(IGZO) 박막증착 레포트

  실험 원리 a) rf sputtering rf sputtering은 dc sputtering과 달리 금속외에 비금속, 절연체, 산화물, 유전체 등의 target에도 sputtering이 ... RF Sputter를 이용한 InGaZnO(IGZO) 박막증착 김OO 1. 실험 제목 : rf sputter를 이용한 InGaZnO(IGZO) 박막증착 2. ... Ar gas를 50sccm 으로 흐르게 설정후 잠시후 gas를 chamber안에 흐르게 한다.(1sccm=1cc/min의 gas flow) AC power를 켜주고 rf power를

  리포트 | 4페이지 | 3,000원 | 등록일 2019.11.06

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  반도체 공정 term project

  DC/RF sputtering Abstarct(혹은 초록) Sputtering은 Chamber내에 공급되는 가스에서 발생되는 전자 사이의 충돌로부터 시작된다. ... RF Sputtering방법은 target이 금속 이외에도 비금속, 절연체, 산화물, 유전체 등의 sputtering이 가능하며 주로 13.56MHz의 고주파 전원을 사용한다. ... DC sputtering은 코팅으로 사용될 target material에 이온화 된 가스 분자가 충돌하여 원자가 플라즈마로 sputtering되는 PVD(Thin Fi Ar가스 기체가

  리포트 | 11페이지 | 5,000원 | 등록일 2023.06.22

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  진공증착레포트

  DC sputtering은 금속과 같은 도체에 주로 사용하며 RF sputtering은 반도체나 부도체에 주로 사용합니다. ... Sputtering은 가해주는 전압의 종류에 따라 DC(직류) sputtering과 RF(교류) sputtering으로 구분할 수 있습니다. ... RF sputtering은 시료표면에 전하가 축적되는 electric load 현상을 방지하기 위해 사용합니다. < 출처 > - https://allgo77.tistory.com/62

  리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2021.04.11

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  스퍼터링, RIE 실습 레포트

  진행한다. ① 플라즈마 방전이 확인되면 MFC를 이용하여 실험 조건의 Ar/ O _{2}가스 유량으로 조절한다. ② 3inch의 구리 타겟을 이용하여 Pre-sputter를 5분간 ... 진행한다. (5) 스퍼터링 증착을 진행한다. ① Pre-sputter가 종료되면 로테이션을 돌려준다. ② 셔터를 열어 각 조건의 스퍼터링 증착 시간만큼 진행한다. (6) 스퍼터링 ... 방전이 발생하면 공정 조건의 Ar 가스 유량 및 파워로 조절한 뒤 챔버 내부의 불순물, 혹은 타겟 표면의 산화막 등이 기판에 증착되지 않도록 기판을 셔터로 가리고 증착시키는 Pre-sputter를

  리포트 | 7페이지 | 3,000원 | 등록일 2020.06.28

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  학부생 연구프로그램 보고서

  업무 수행의 경과 및 결과 Experimental Mo 기판은 RF sputtering 방법으로 소다석회유리 위에 증착하였다. ... Mo substrate를 좀 더 RF Power를 올려서 증착해 보는 것과 선 저항이 아닌 면 저항을 귀하 ... 소다석회유리에 sputtering 방법으로 증착된 Mo 기판은 CIGS 태양전지의 후면전극으로 널리 사용되고 있다.

  리포트 | 7페이지 | 3,000원 | 등록일 2019.10.31

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  2019 상반기 LG 디스플레이 R&D 자기소개서

  실험에서 사용한 장비는 DC/RF Sputter입니다. 이 장비에서 에너지를 공급하는 방법은 크게 두 가지로 RF Power와 기판 온도입니다. ... 이에 RF Power를 변경하여 광투과도를 70%까지 향상했습니다. 여기서 실험을 종료하지 않고, 더 높은 광투과도를 위해 기판 온도도 변경했습니다.

  자기소개서 | 3페이지 | 3,000원 | 등록일 2020.05.18

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  ITO glass를 이용한 OLEDPLED 제작 공정 결과

  밀착시키지 않고 가볍게 붙이는 소프트식, 레이저를 이용한 근접식, 렌즈를 이용한 프로젝션 등의 방법이 많이 쓰인다. 4.2 시약 ITO glass 투명 기판(glass)에 ITO 박막을 sputtering ... rinse(10분)→IPA(20분)→DI rinse(10분)→질소로 물기제거→Hot plate 건조(110℃, 10분)→UVO Cleaning(10분) 이외에도 RCA cleaning, RF ... 대략적인 공정으로는 원하는 크기로 자르는 scribing 공정, 기판의 불순물을 제거하는 cleaning 공정, photoresist를 도포하고 선택적으로 제거하여 기판의 모양을 설계하는

  리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2019.12.16

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  신소재프로젝트3 광전자 A+ 예비레포트

  이러한 교류 전원을 인가전원으로 사용하는 스퍼터링법을 교류스퍼터링(RF sputtering)법이라 한다. ... RF sputtering법은 다른 디지털 회로의 noise 발생 원인이 될 수 있으므로 시스템적으로 noise filter나 절연체에 의한 차폐와 접지가 중요하다. ... 여기서 인가된 전원이 직류(direct current, DC)일 경우를 직류스퍼터링법(DC sputtering methode)라 하며 일반적으로 전도체의 sputtering에 사용된다

  리포트 | 14페이지 | 3,000원 | 등록일 2023.10.07

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  Evaporator_Sputter 레포트

  RF 스퍼터링은 교류 전원을 이용한 증착 방식이다. ... 스퍼터링 방법에는 DC Sputtering, RF Sputtering, Magnetron Sputtering 등이 있다. ... DC Sputtering 구조 [5] 또한, RF 스퍼터링에 비해서 증착 속도가 빠르고 박막의 균일도가 크며, 밀착 강도가 높다는 장점이 있다.

  리포트 | 7페이지 | 2,500원 | 등록일 2021.11.08

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  [기초공학실험]Cu film의 전기적 특성 분석 실험

  RF sputtering은 금속 이외에도 비금속, 절연체, 산화물, 유전체 등의 sputtering이 가능하다. ? ... 종류 ① DC sputtering 직류전원을 이용한 sputtering 방법이다. ... DC sputtering에서는 target이 산화물이나 절연체일 경우 sputtering되지 않는다.

  리포트 | 8페이지 | 3,200원 | 등록일 2019.09.02 | 수정일 2020.08.10

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  이공계(반도체,전기전자,화학공학 등) 대학원 교수님 컨택메일 예시

  SEM등의 측정장비와 RF Magnetron sputter, ALD, PECVD 등의 공정장비를 다뤄보고, 제작한 MOSCAP의 특성을 CET계산을 통해 분석하고 문제점을 찾아보았습니다 ... 추가로 bending, stretching 등의 external mechanical stress를 sensing하고 구조, 소재 변화를 통한 electrical properties ... 증가 또는 개선하는 연구, 또는 novel film stacking mechanism을 통해 soft/ flexible electronics에서 필연적으로 고려되어야 하는 요소들의

  자기소개서 | 2페이지 | 4,500원 | 등록일 2023.07.12 | 수정일 2023.07.18

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  울산과학기술원(UNIST) 유니스트 대학원 전기전자공학과 자기소개서 연구계획서

  Furthermore, I will study about CO2 laser-assisted RF-sputtered GaN thin film for wide bandgap semiconductors ... a two-step sintering process and so on. 2.Study Plan I will study about Etching characteristics and ... surface modification of InGaSnO thin films under Cl2/Ar plasma, Estimation of channel states for adaptive

  자기소개서 | 2페이지 | 3,800원 | 등록일 2023.10.11

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  [고분자재료]ITO scribing & cleaning-예비레포트(만점)

  기본적으로는 물, 용매, 초음파, UV 등으로 붙은 불순물을 제거하고, 이번 실험같이 더욱 큰 순도를 요하는 실험에서는 sputtering 등의 공정을 사용하기도 한다. sputtering ... 액체나 기체 상ITO 박막을 sputtering 기법으로 코팅한 것을 의미한다. ... 기구 및 시약 ITO glass ITO glass는 투명 기판(glass)에 ITO 박막을 sputtering 기법으로 코팅한 것을 의미한다.

  리포트 | 12페이지 | 1,500원 | 등록일 2022.01.21

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