Photo lithography 예비보고서

소개글

물리학과 4학년 실험과목에서 제가 작성했던 보고서입니다.
정말 최선을 다해서 보고서를 작성했고 그결과 성적은 A+받았습니다.

목차

1.실험목적
2.관련이론
3.주의사항

본문내용

실험의 목적
Photo lithography 실험을 통해 반도체 공정 중 하나인 Photo lithography의 각 과정을 이해하고 실제로 실험하여 선택한 패턴을 웨이퍼 상에 형성한다.

관련이론
1) Photo lithography
Photo lithography란 반도체 공정중의 하나로 제조 공정을 통해 설계된 나노미터 수준의 복잡한 전자회로를 웨이퍼로 그리는 기술이다. lithography라는 말에서 알 수 있듯이 석판화를 그리는 과정과 유사하여 이와 같은 이름이 붙여졌다.

[2] Spin coater
Spin coater란 spin coater 내부의 물체를 고속으로 회전시켜 물체의 표면에 원하는 액체를 코팅하는 방법이다. 이번 실험에서는 웨이퍼에 pr용액을 코팅하기 위하여 이용된다.

[3] PR 용액
PR 용액은 Photo resist 용액의 줄임 말로 이름에서 알 수 있듯이 빛과 관련된 용액이다.

참고 자료

Photo lithography : https://en.wikipedia.org/wiki/Photolithography (accessed April, 28, 2019)
포토리소그래피 : https://it-learning.tistory.com/89 (accessed April, 28, 2019)
포토공정 : https://www.skcareersjournal.com/908 (accessed April, 28, 2019)
에칭공정 : https://www.skcareersjournal.com/959 (accessed April, 28, 2019)
Photo Resist : https://whereisusb.tistory.com/83?category=687509 (accessed April, 28, 2019)