[증착법] 증착법
- 최초 등록일
- 2003.10.07
- 최종 저작일
- 2003.10
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목차
⊙ 진 공 (Vacuum)
⊙ 증 착 법
본문내용
⊙ 증 착 법
강철과 초경합금 등의 표면경화 개질기술로써 CVD 및 PVD의한 기상증착이 주목을 받고, 이후 표면개지법의 주류가 되리라고 생각된다. 금형, 절삭공구 및 부품의 장수명화, 고성능화 등에 큰 성과를 발휘해 그 응용분야의 확대는 멈출줄을 모른다. 표면개질이란 측면에서 박막공학, 표면처리기술을 취하면 충격, 마찰마모, 접합, 이형, 열산화 등을 단독으로 혹은 몇 개의 조합으로 요구한다. 기재와 표면 기능의 조합은 다종다양하며 증착 법의 득실을 충분히 파악해 그 용도, 목적에 따라서 처리법과 증착피막의 선택을 하지 않으면 만 족하는 특성을 얻을 수 없다.
1. 증착의 개요
박막을 제조하는 기술은 크게 물리적 방식을 이용하는 Physical Vapor Deposition(PVD)과 화학적 방식을 이용하는 Chemical Vapor Deposition(CVD)로 분류될 수 있다. PVD는 CVD에 비해 작업 조건이 깨끗하고, 진공상태에서 저항열이나 전자beam, laser beram 또는 plasma를 이용하여 고체상태의 물질을 기체상태로 만들어 기판에 직접 증착시키는 박막제조 방식이다.
참고 자료
없음