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xps 발표

*영*
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최초 등록일
2008.04.13
최종 저작일
2008.04
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소개글

X-ray Photoelectron Spectroscopy 분석 기기에 대한 발표 자료입니다.

목차

XPS의 이론 및 원리(1)
XPS의 이론 및 원리(2)
XPS의 이론 및 원리(3)
XPS의 장비 구성 및 역할

본문내용

UHV(Ultra High Vaccum)중에 위치한 시료 표면에 특성 X-ray를 조사하여 시료내의 photoelectron를 밖으로 튀어나오게 하여 그 전자의 운동에너지와 강도를 측정하고 그 측정값에 의해 물질 내에 있는 전자의 에너지 준위와 양을 알아내는 방법.
X선은 흔히 Soft X-ray라 불리는 Mg와 Al의 K α 1,2 선이며 특별한 경우를 제외하고는 단색화 장치(monochromator)를 거치지 않고 그냥 이용된다. X선 발생기에서는 텅스텐 필라멘트로부터 방출되는 열전자가 가속되어 과녁(target) 물질인 마그네슘 또는 알루미늄에 충돌하면 과녁 물질의 특성 X선이 나온다.
Al K α 1,2 (1486.6eV) or Mg Kα1,2 (1253.6eV)를 사용하여 원자내 core level의 전자들을 축출한다.
Ek = hν – Eb – eΦsp
Two Types of Peaks found on Spectra
Primary Electron Peaks
Auger Electron Peaks

참고 자료

없음
*영*
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