"Pulsed laser deposition" 검색결과 81-100 / 101건

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  솔루션을 통해 합성된 나노 결정체 배열의 형태 변경

  ), 펄스 레이저 증착법(pulsed laser dposion(PLD)), 스퍼터링(sputtering), 수용액(aqueous solution) 방법을 포함하여 ZnO 나노스케일 ... Liu, Low-temperature growth of well-aligned ZnO nanorods by chemical vapor deposition, Adv. ... 그것들은 표면 어쿠스틱 웨이브 필터, 자외선 레이저장치, 포토닉 크리스탈, 포토 디텍터(photo detectors), 필드 이미팅(emitting) 장치, 센서, 압전특성 물체,

  리포트 | 28페이지 | 3,500원 | 등록일 2008.06.05

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  [금속공학]건식증착법

  (L-MBE, Laser Molecular Beam Epitaxy), 펄스레이저증착법 (PLD, Pulsed Laser Deposition),플라즈마증착법, 등이 있습니다. ... 대해 언급하면, PVD에 해당하는 증착법에는 스퍼터링 (Sputtering), 전자빔증착법 (E-beam evaporation), 열증착법 (Thermal evaporation), 레이저분자빔증착법 ... 하나는 PVD (Physical Vapor Deposition)이고 다른 하나는 CVD (Chemical Vapor Deposition)입니다.

  리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.04.30

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  임플란트 제조기술의 현황과 방향 모색

  laser deposition(PLD) 등의 진공 증착법에 의한 HA 코팅이 연구되고 있다. ... 레이저빔이 타겟 표면에서 흡수되면 레이저 2주와 4주간에 칼슘의 면적은 GroupⅡ에서 약간 증가하였으며, GroupⅠ에서는 약간 감소하였으나 통계학적 유의성은 나타나지 않았다. ... 용사법보다 우수한 특성의 코팅을 형성하기 위하여 주로 반도체를 비롯한 전자산업에서 사용되고 있는 ion beam sputtering 방법, rf sputtering 방법, 그리고 pulsed

  리포트 | 14페이지 | 4,000원 | 등록일 2008.12.20

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  ZnO, Al 도핑한 ZnO 박막의 홀 계수 측정과 분석

  laser deposition | Yaodong Liu 외 Extraction of optical constants of ZnO thin films by ellipsometry with ... films grown by MOCVD | Optical and electrical properties of aluminum-doped ZnO thin films grown by pulsed

  리포트 | 4페이지 | 2,000원 | 등록일 2010.01.04

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  금속의 표면저항

  (L-MBE, Laser Molecular Beam Epitaxy), 펄스레이저증착법 (PLD, Pulsed Laser Deposition) 등이 있다. ... 하나는 PVD (Physical Vapor Deposition)이고 다른 하나는 CVD (Chemical Vapor Deposition)이다. ... ) 증착법 (Vapor Deposition)들은 크게 두 가지로 분류된다.

  리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.10.16

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  10억불분자-탄소나노튜브의 이해

  이어서 1996년 Smalley 등은 레이저 증착법(laser vaporization)으로 직경 chirality에 따라 다양한 물리적 성질을 가지고 있기 때문이다. ... (laser vaporization), 열분해법(pyrolysis)이 제시되었다. ... 최근에는 탄소나노튜브를 수직배향으로 합성할 수 있는 CVD법(화학기상증착법, chemical vapor deposition)이 크게 부각되고 있다.

  리포트 | 11페이지 | 2,500원 | 등록일 2008.05.21

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  [박막증착]박막증착

  ), 열증착법 (Thermal evaporation), 레이저분자빔증착법 (L-MBE, Laser Molecular Beam Epitaxy), 펄스레이저증착법 (PLD, Pulsed ... Laser Deposition) 등이 있다. ... 따라서 전자는 Lorentz의 힘을 받아 선회 운동을 하며 가속되기 때문에 나선 mical Vapor Deposition) CVD(Chemical Vapor Deposition) 에

  리포트 | 7페이지 | 2,000원 | 등록일 2006.04.20

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  [전자재료실험]MOS캐패시터

  (L-MBE, Laser Molecular Beam Epitaxy), 펄스레이저증착법 (PLD, Pulsed Laser Deposition) 등이 있다. ... (산화공정 -100A, 200A, 300A) 2) ZrO₂를 조건에 맞게 ALD(atomic layer deposition) 한다. 3) 포토공정 ① 실리콘 표면처리(HMDS) ② ... 휘발시켜서 기판에 증착시키는 것이고 조금 더 복잡한 방법으로는 각각의 원료 물질을 cell (effusion cell)에 넣은 다음에 cell의 문을 열고 닫는 것으로 원료물질을 열, 레이저

  리포트 | 8페이지 | 1,500원 | 등록일 2006.06.20

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  액상법을 이용한 diamond 제조 방법

  Technique. - Chemical Vapor deposition - pulsed - laser deposition - Ion beam Sputtering In Liquid phase ... , DLC film deposition Sejong University Advanced Materials Engineering ..PAGE:4 Graphite 1기압하에서 안정된 탄소 ... Sejong University Advanced Materials Engineering ..PAGE:3 Introduction DLC (Diamond-like carbon) Vapor deposition

  리포트 | 14페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.02.25

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  [공학]미세전자공정, 집적회로 공정 관련 주요정보기지(SITE) 및 Reference

  Energy Beams 8.1 Electron Generation 8.2 Electron Beams 8.3 Arc Plasmas 8.4 Pulsed Lasers 8.5 Ion Bombardment ... Chemical equilibrium 7.3.2 Gas-phase rate 7.3.3 Surface processes 7.4 Diffusion 7.4.1 Diffusion-limited deposition ... Morphology 6.8 Conclusion 6.9 Exercises 6.10 References 6.11 Recommended Readings Chapter 7 Chemical Vapor Deposition

  리포트 | 25페이지 | 2,000원 | 등록일 2006.11.07

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  [방막공학] 박막제조

  타켓이 전도체일 경우에는 DC 바이어스를 사용할 수 있지만 부도체인 경우에는 공간전하(Space charge)가 축적되는 것을 막기 위해서 RF(13.56MHz)나 Pulsed DC ... 레이저 CVD법에 의한 H막의 특성은 플라즈마법과 동등한 수준이고 성막속도는 보통 램프광을 이용한 광 CVD법보다는 빠르지만 대면적화가 곤란하여 이것을 고려한 레이저광원이나 장치구성 ... CVD 레이저 CVD법의 장점은 1선택적인 반응을 진행 2화학반응공정을 임의로 제어할 수 있다.

  리포트 | 7페이지 | 1,500원 | 등록일 2005.06.04

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  [엘시디] tft lcd에 관한 모든것

  각 부분에 대해 간략히 살펴보면, 우선 LCD 에 표시될 화상이 생성되는 신호원으로서는 computer나 동화상 display를 위한 laser disk player 등이 있는데 이들로 ... PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) 2. Sputtering 공정 (증착공정) 3. ... 출력신호는 시간적인 관점에서 볼때 , 한 frame에 하나의 pulse만 존재하고 어느 출력 신호와도 동시에 존재하지 않는 것이 일반적이다.

  리포트 | 21페이지 | 1,500원 | 등록일 2004.11.06

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  [LCD] LCD 기초

  Source의 각 화소에 해당 되는 Data를 한 Line Latch 하고 해당 Data Gate Line에 Pulse 인가 b. ... a-si TFT ( amorphous silicon TFT ) ♦ Poly-si TFT ( Poly Silicon TFT), LTPS ( Low Temperature TFT ) Laser결정화 ... 고객의 요구에- ing A Pattern- ing B Pattern- ing B Pattern- ing B Pattern- ing A 증착 / 패턴 공정 상세도 (Deposition

  리포트 | 42페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.07.26

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  [자연과학]박막과 MEMS

  넷째, PLD(Pulse Laser Deporsition)법이 있다. ... 우선 CVD(Chemical Vapor Deposition)법이 있다. ... 이것은 펄스 형태의 레이저를 이용한 박막 증착법으로서 단원소를 비롯하여 다원 화합물의 시료에 이르기까지 원하는 조성비를 갖는 박막을 빠른 시간내에 얻을 수 있는 최적의 물리증착방법이다

  리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.06.11

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  [반도체공학] 반도체 제조공정

  Edge polishing cleaner ..PAGE:8 Wafer process Laser marking sorting 두께별로 분류하여 LOT관리를 위해 PULSED ND:YAG-LASER이용 ... wire saw 절단시는 별도의 두께 sorting불필요 ND:YAG(고체레이저) Neodymium(1%)- Yttrium Alumium Garnet(99%) 발진파장 : 1.064um ... 0.152Å ..PAGE:13 Device process Pattern Preparation 유리 mask 를 PR공정을 위해 wafer surface에 올림 설계시 CAD사용 Laser

  리포트 | 29페이지 | 1,000원 | 등록일 2003.01.02

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  [진공공학]진공 기술 기초

  High Adhesion but Arcing Low Hardness Thermal Stability PSII High Adhesion Hardness Low Productivity Laser ... cm2, c = 515 l/sec Sn = (720 x 515)/(720 + 515) = 300CVD (화학적 증기 증착법) Ion Energy Distribution PACVD Deposition ... Sputtering : ion beam Low Hardness Thermal Stability Non Uniform in Complicated Shape PECVD (DC, HF, RF,ECR, pulsed

  리포트 | 64페이지 | 1,500원 | 등록일 2005.12.29

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  [강유전체] FRAM재료

  현재 이 재료에 관한 연구는 대부분 sol-gel이나 pulsed laser ablation 방법등이 주를 이루고 있다. ... 이러한 방법들 중에서 특히 넓은 면적의 증착과 층덮힘, 그리고 치밀한 구조를 갖는 박막의 제조가 가능한 MOCVD(metal-organic chemical vapor deposition

  리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2001.12.01

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  [fram] FeRAM응용을 위한 RMnO3박막 특성 연구

  지금까지는 YMnO3 박막에 대하여 FeRAM에 응용할 정도로 만족할만한 특성치가 보고된 것은 없으나 rf magnetron sputtering[30-32], pulsed laser ... deposition[27,33], molecular beam epipaxy[28], chemical solution deposition[34], Reflux[35,36], 와 Thermal

  리포트 | 31페이지 | 3,000원 | 등록일 2001.11.06

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  [신소재]나노 기술

  탄소나노튜브의 합성기술은 1998년을 기점으로 기존의 전기방전법, 레이저 증착법으로부터 화학적 기상증착법 (Chemical Vapor Deposition, CVD)법으로 급격히 전환된 ... 256 MDRAM 반도체 소자를 1만분의 1로 줄일 수 있는 것으로 평가되고 있고, 앞으로 Terabit DRAM의 드 타입 FED을 제작하였고, 화소 (pixel)마다 펄스신호 (pulse

  리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2002.07.04

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  플라즈마에 대하여

  고출력 펄스(pulse) 기술은 신소재 개발에 사용되는 강한 전자빔(beam)이나 이온빔을 만드는데 이용되며, 플라즈마 스위치는 아주 짧은 시간동안에 많은 전류를 흐르게 하는 장치이다 ... 고출력 스위치는 지금도 전력산업에 중요한 위치를 차지하고 있으며, 자기핵융합, 고출력 레이저 개발, 그리고 방위산업에도 이용된다. ... 플라즈마 질량분석법 최근 연구분야는 기존 ICP의 단점인 대량의 carrier gas 손실을 획기적으로 감소시키고 고체시료를 전처리 과정 없이 직접 분석 할수 있는 최첨단 장치인 Laser

  리포트 | 9페이지 | 1,000원 | 등록일 2000.12.20

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