"Electron Beam Physical Vapor Deposition(EB-PVD)" 검색결과 121-140 / 171건

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  [금속공학실험]ZnO박막 실험

  . ◆ 이론 ● PVD(물리적 증착법) PVD : Physical Vapor Deposition의 약자로 도금될 금속을 증발시켜 부착시키는 것으로, 증착막의 두께는 수 A단위에서 mm ... 이온도금(Ion Plating) 1) 열증발(Thermal Evaporation) 2) 고전압 전자빔 증발(High Voltage Electron Beam Evaporation) 3 ... ) 아-크 증발(Arc Evaporation) 4) 마그네트론 증발(Magnetron Evaporation) 5) 이온빔 증발(Ion-beam Evaporation) ● 스퍼터링이란

  리포트 | 8페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.05.25

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  박막 증착과 4-point probe 의 이해

  실험이론 PVD (Physical Vapor Deposition) PVD에 해당하는 증착법에는 스퍼터링 (Sputtering), 전자빔증착법 (E-beam evaporation), ... 박막은 물리기상증착(Physical Vapor Deposition)과 화학기상증착(Chamical Vapor Deposition)등의 다양한 방법으로 성장되며, 일단 형성된 박막은 ... 이러한 박막증착 방법중에서 무엇보다도 CVD (Chamical Vapor Deposition)가 가장 널리 쓰이고 있다.

  리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.07.09

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  공주대 반도체제조공정 중간고사 족보

  -------------------------------- cvd(chemical vapor deposition) ▶산화막층,금속층:cd의 축소,소자의 특성을 유지하기 위하여 전체적인 ... .eds(energy dispersive x-ray spectrons copy) 8.fib(focused ion beam) -------------------------------- ... 부식에 대한 저항력 ▶구리베리어메탈요구조건:1.구리확산방지,2.낮은필름 저항 3.유전체 재료와 구리 모두에게 좋은 접착력4.CMP와 호환됨5.초소두께의 구리로 최대단면적 만족시킴 ▶pvd할

  시험자료 | 2페이지 | 1,500원 | 등록일 2011.11.08

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  스퍼터링

  물리적인 방법은 PVD(Physical Vapor Deposition)으로써, evaporation, sputtering 과 같은 물리적인 힘(증발, 승화, 이온충돌 등)을 이용하여 ... Vapor-phase epitaxy의 발전을 위한 많은 기술과 시스템들이 발전을 하고 있으면 다양한 절연체 물질이나, 전도체 물질에 널리 이용 되고 있다. ? PVD ? ... 화학적인 방법으로 대표적인 것이 CVD(Chemical Vapor Deposition)이다.

  리포트 | 23페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.04.13

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  [공학]에피택셜 성장 epitaxial growth 에피택시

  기판표면과 반응하여 결정성장이 되는 것 (physical vapor deposition)을 발전시킨 방법. ... electron diffraction : 성장중 에피택시 층을 분석할 수 있는 장치. ... Cf) 에피택시 공정 중 MBE법은 초고진공(10-11 torr 이하) 장치 내에서 원료 물질을 증발시켜 기판에 증착시키는 물리적 증착 기술 즉, PVD 기술의 하나이다.

  리포트 | 20페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.07.20

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  증착법, 스퍼터링, 박막 공정 (THIN FILM PROCESS)의 기초

  박막 증착의 종류 물리 기상 증착법(Physical Vapor Deposition, PVD) 화학 기상 증착법(Chemical Vapor Deposition, CVD) 분자 빔 결정법 ... (Molecular Beam Epitaxy, MBE) 박막 증착(Thin Film Deposition) 증착의 요구 조건 원하는 구조, 적은 이물질, 전기적·기계적 성질의 우수성을 ... Evaporation 물리 기상 증착법(Sputtering) 물리 기상 증착법(PVD) 고경도(High hardness) 고밀도조직 - 표면 압축응력 부여 저 마찰계수 - 마찰저항

  리포트 | 41페이지 | 5,000원 | 등록일 2007.10.17 | 수정일 2014.08.27

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  pvd,cvd

  PVD (Physical Vapor Deposition) PVD에 해당하는 증착법에는 스퍼터링 (Sputtering), 전자빔증착법 (E-beam evaporation), 열증착법 ... CVD에 해당하는 증착법에는 MOCVD (Metal-Organic Chemical Vapor Deposition), HVPE (Hydride Vapor Phase Epitaxy) 등이 ... (Thermal evaporation), 레이저분자빔증착법 (L-MBE, Laser Molecular Beam Epitaxy), 펄스레이저증착법 (PLD, Pulsed Laser Deposition

  리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.12.09

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  금속의 표면저항

  하나는 PVD (Physical Vapor Deposition)이고 다른 하나는 CVD (Chemical Vapor Deposition)이다. ... CVD에 해당하는 증착법에는 MOCVD (Metal-Organic Chemical Vapor Deposition), HVPE (Hydride Vapor Phase Epitaxy) 등이 ... ), 레이저분자빔증착법 (L-MBE, Laser Molecular Beam Epitaxy), 펄스레이저증착법 (PLD, Pulsed Laser Deposition) 등이 있다.

  리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.10.16

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  박막 증착 방법, 종류

  박막증착 방법 PVD(physical vapor deposition)법 옛날부터 박막형성에 이용되어 온 방법으로서, 다른 방법으로는 할 수 없는 저온처리에 의해서 비교적 간단히 박막을 ... LPCVD(Low pressure chemical vapor deposition) - 0.2 - 2.0 torr, 300 C - 900 C에서 동작 - 필름의 순도가 높고 균일하다 ... 종류 APCVD(Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition) - 760 torr , 400 C - 500 C에서 동작 - 간단한 반응노, 낮은

  리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.11.14

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  Cryo pump의 구조와 원리

  Evaporation고온 필라멘트 대신 electron beam (15KeV)을 을 사용 E-beam에 맞는 sourse 가 열을 받아 기화되어 층착되어짐. ... welding Vapor deposition Ion implantation Insulation (thermal)Space research Materials research Metallogy ... Physics research Surface analysis Molecular beam epitaxy(MBE)냉장고의 냉동실과 흡사 냉매의 공급 : 액체질소, 헬륨을 압축시켜 사용한

  리포트 | 15페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.08.21

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  건식도금(pvd, cvd)

  ◎ 건식도금 - 건식도금은 CVD(chemical vapor deposition)과 PVD(physical vapor deposition)으루 크게 분류할 수 있다. ... 화학적증착법(Chemical Vapor Deposition, CVD) - 이 방법은 진공실냉 치운 가스가 높은 온도로 가열된 피증착물의 표면부근 또는 표면상에서 화학 반응을 일으키고 ... 증발 수단으로는 boat 가열증발, 전자 beam gun 증발, sputtering, 냉음극 arc 방전 등이 이용되고 있다재료는 합금이 될 수 없는 조합을 선택하여야 하며, 그것이

  리포트 | 21페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.10.17

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  박막증착 장비의 종류 및 원리와 GaN LED의 이해

  ◎박막증착 장비의 종류(Chemical vapor deposition 중심) - 박막 두께가 단원자층에 상당하는 0.1㎚에서 10㎛정도의 두께를 가진 기판 상에 만들어진 고체 막을 ... 물리적 기상 증착법(Physical Vapour Deposition) 물리적 기상 증착법이란 고진공 조건에서 화학반응이 일어나지 않는 상태로 단일 금속의 증기상을 피처리물 표면에 코팅시키는 ... 화학적 기상 증착법(Chemical vapor deposition) 화학적 증착법은 진공조건에서 화학반응에 의해 형성된 고체상이 피처리물 표면에 응축되어 피복층을 형성하게 하는 것으로

  리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.11.30

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  에피택시

  기판표면과 반응하여 결정성장이 되는 것 (physical vapor deposition)을 발전시킨 방법이다.진공증착 기술을 이용하여 고체 박막층을 형성시기는 가장 오래되고 용이한 ... 방법중 하나이며, 성장중 장치를 이용하여 보다 정확한 간격으로 정밀성을 높일수 있고,reflection high energy electron diffraction : 성장중 에피택시 ... 결정 구조를 갖는 물질을 성장시키는 기술을 뜻한다.에피탁시는 방법에 따라 크게 세 가지로 분류되는데, 액상 에피택시(liquid phase epitaxy, LPE), 기상 에피택시(vapor

  리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.05.24

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  [반도체 박막]E-beam Evaporator

  물리적 증착(PVD : Physical Vapor Deposition) A ---> A 기판에 붙은 물질의 화학적 조성은 기판에 도착한 기테 상태의 물질의 조성과 동일 -Vacuum ... 화학적 증착(CVD : Chtmical Vapor Deposition)_ A + B ---> C -기체(무화)상탱의 화합물을 가열된 모재 표면에서 화학적 반응을 통하여 생성물을 모재 ... 표면에 증착시키는 방법 -Plasma CVD -Laser CVD -MOCVD(Metal Organic Chemical Vapor Deposition) 화학적 증착의 특징 -출발물질의

  리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.05.26

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  TCO에 대한 기초 내용 및 현재의 기술동향, 관련 특허 조사 및 분석, 시장 및 기술동향에 대한 전망

  ITO 도전막, 그 증착방법 및 증착 장치 출원번호 : 10-2TO 박막은 일반적으로 기판 위에서 sputtering이나 thermal evaporation과 같은 PVD를 사용하여 ... 이후에 전형적인 공정과정으로 hole 수송층, 발광층, electron 수송층, electron 주입층을 증착하여 Fig.1과 같은 구조를 형성한다. 특허 10. ... 투명전극을 형성하는 공정으로는 chemical vapor deposion (CVD), sputtering, reactive evaporation 등이 있으며 각각 장단점이 존재한다.

  리포트 | 35페이지 | 3,000원 | 등록일 2010.02.06

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  단결정 성장 메커니즘과 성장방법에 대한 연구,조사

  PVD; physical vapor deposition)이나 화학적 증착(CVD; chemical vapor deposition)은 비정질 산화막이나 금속막을 증착하는데 널리 사용되는데 ... 일반적으로 용융액에서 단결정의 성장 속도가 10-2cm/min 인데 이보다 더 낮은 10-4cm/min 정도의 성장률이 필요한 경우이다. ... 용액 성장법에 비해 순도, 두께, 화학양론, 성분등의 조절이 용이하여 반도체 웨이퍼 등의 Electronic Property가 중요한 Device의 결정 성장에 우수한 방법이다.기체상

  리포트 | 11페이지 | 3,000원 | 등록일 2008.09.27

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  [박막증착]박막증착

  PVD, CVD, 무전해도금 ◎ PVD (Physical Vapor Deposition) PVD에 해당하는 증착법에는 스퍼터링 (Sputtering), 전자빔증착법 (E-beam evaporation ... 해당하는 증착법에는 MOCVD (Metal-Organic Chemical Vapor Deposition), HVPE (Hydride Vapor Phase Epitaxy) 등이 있다 ... 따라서 전자는 Lorentz의 힘을 받아 선회 운동을 하며 가속되기 때문에 나선 mical Vapor Deposition) CVD(Chemical Vapor Deposition) 에

  리포트 | 7페이지 | 2,000원 | 등록일 2006.04.20

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  DC 마그네트론 스퍼터링 장치를 이용한 Cu 증착률의 스퍼터링 압력 및 Power 의존성 조사

  Vapor Deposition : PVD) 기술 과 화학적 증착(Chemical Vapor Deposition : CVD) 기술, 그리고 플레이팅(Plating)증착기술로 나누어진다 ... 그리고 이 두 가지 기술을 융합하여 반도체를 기판과 동일한 결정구조로 성장시켜 소자의 특성을 향상 시키는 에피택시 증착 기술로 나누어진다.이 중에서 생성전달 기술은 크게 물리적 증착(Physical ... self-bias[10].3.

  리포트 | 37페이지 | 6,000원 | 등록일 2008.01.16 | 수정일 2014.08.20

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  반도체 용어 정리

  크게 물리적 방식을 이용한 Physical Vapor Deposition(PVD)와 화학적 방식을 이용한 Chemical Vapor Deposition(CVD)로 분류될 수 있다. ... 坪 층을 고립화시키기 위해서 미세 전자 공학(micro-electronics) 산업에서 사용되는 기술이다. ... MOCVD Metal Organic Chemical Vapor Deposition ☞ 유기 금속 화학 증착법 화학 반응을 이용하여 기판상에 금속 산화막을 형성하는 박막 형성법.

  리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.10.23

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  [반도체 공학] pvd의 종류및 증착원리

  PVD 란 PVD(Physical Vapor Deposition)는 물리적 기상 증착이라고 불린다. ... 주로 사용된다. electron beam 소스인 hot filament에 ... 단점으로는 step coverage가 좋지 않고, 증착 area가 매우 좁다. (4) E-beam evaporation 전자 빔을 이용한 증착방식은 증착재료의 용유점이 높을 경우에

  리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.09.30

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