"PACVD" 검색결과 1-20 / 23건

• 

  PACVD

  PAPVD (Ion-plating) 1. 개요 Plasma-assisted physical vapour deposition (PAPVD) 은 박막의 성질을 향상시키기 위하여 glow discharge를 이용하는 물리증착과정의 총칭이라 할 수 있다. Mattox는 이것을..

  리포트 | 8페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.04.04

  다운로드 장바구니
• 

  PACVD 방법으로 TiN 코팅시 공정변수가 작은 동공 내부의 코팅층 형성에 미치는 영향

  한국재료학회 김덕재, 조영래, 백종문, 곽종구

  논문 | 7페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

  다운로드 장바구니
• 

  CH4-H2-N2 기체계에서 MW-PACVD를 이용한 결정상 합성

  한국재료학회 김도근, 백영준, 성태연

  논문 | 8페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

  다운로드 장바구니
• 

  진공 및 박막 실험 최종 보고서

  PACVD에서의 플라즈마의 가장 중요한 역할은 낮은 온도에서 반응가스를 분해시키는 것이다. ... PACVD 기술은 Thermal CVD에서의 1000‘c 이상에서 가능했던 공정을 500’c 이하에서 가능하게 함으로써 PAPVD와의 경쟁이 가능하게 되었다.

  리포트 | 53페이지 | 6,000원 | 등록일 2012.11.24

  다운로드 장바구니
• 

  반도체 공정_CVD (메카니즘, 종류, System, Future)

  ressure CVD (APCVD) L ow P ressure CVD (LPCVD) (Cold-Wall) LPCVD (Hot-Wall) LPCVD P lasma -Assisted CVD ( PACVD

  리포트 | 21페이지 | 3,000원 | 등록일 2013.12.01

  다운로드 장바구니
• 

  반도체

  현재 TiN의 증착에는 EB-RIP, BMS, UBMS, CAD 등의 PAPVD와 PACVD 기술이 모두 이용되고 있다. ... RF 스퍼터링과 Pulsed DC 스퍼터링으로 Al2O3 피막을 제조한 예가 보고되어 있으며, Microwave를 이용한 PACVD 기술로 400℃에서 -Al2O3의 증착에 성공했다는 ... 지금까지 PAPVD, PACVD를 비롯한 여러 가지 방법이 시도 되었는데 현재까지 가장 가능성이 있는 기술은 IBAD(Ion Beam Assisted Deposition)이라고 생각된다

  리포트 | 16페이지 | 1,500원 | 등록일 2010.02.06

  다운로드 장바구니
• 

  이온 플래팅

  현재 TiN의 증착에는 EB-RIP, BMS, UBMS, CAD 등의 PAPVD와 PACVD 기술이 모두 이용되고 있다. ... RF 스퍼터링과 Pulsed DC 스퍼터링으로 Al2O3 피막을 제조한 예가 보고되어 있으며, Microwave를 이용한 PACVD 기술로 400℃에서 -Al2O3의 증착에 성공했다는 ... 잘 알려진 바와 같이 PAPVD 또는 PACVD로 제조한 TiN 박막은 2,000∼3,500kg/mm2의 높은 경도를 나타내며 표면 마찰계수가 작아서 절삭공구 등의 표면처리에 광범위하게

  리포트 | 19페이지 | 1,500원 | 등록일 2008.09.27

  다운로드 장바구니
• 

  박막증착

  예로, MOCVD(금속유기물) PECVD(플라즈마 강화 plasma), PACVD(plasma보조), APCVD(상압), LPCVD(저압), UHCVD(초고진공) 등등 넓은 기술을

  리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.06.05 | 수정일 2013.12.01

  다운로드 장바구니
• 

  cvd

  Ⅰ. CVD(Chamical Vapor Deposition) 의 정의와 원리 1. CVD의 정의 박막과학과 기술은 중요한 산업으로 성장해 왔으며, 많은 연구의 대상이 되어왔다. 이유는 박막이 반도체의 제조에 중요하기 때문이다. 박막은 물리기상증착(Physical Vap..

  리포트 | 12페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.05.16

  다운로드 장바구니
• 

  [기계공학] 오일리스 베어링(Oilless Bearing)과 DLC(Diamond Like Carbon)

  그에 비해 너무 낮은 증착 속도가 문제점이다. 2) 플라즈마 증착법 PACVD(Plasma assisted chemical vapor deposition)이라하여 플라즈마를 이용하여 ... 화학적 증착을 하는 것인데, 가스 상태의 원소를 플라즈마에 의해 이온화 시켜 고경도의 수 ㎛박막ield unbalanced magnetron sputter ion plating)에 PACVD를

  리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.11.21

  다운로드 장바구니
• 

  [공학]플라즈마

  이러한 공정이 PACVD 방법이다. ... 또한, 플라즈마 코팅분야의 연구는 PACVD(Plasma Assisted Chemical Vapor Deposition)를 이용하여 TiN, TiC, TiCN 등의 초경도코팅막 응용기술을 ... PACVD 방법을 이용하면 표면의 화학 반응에 의해 코팅이 이루어지기 때문에 복잡한 형상, 대형제품 등의 코팅에 유리하며경적으로나 인체에 매우 해롭다고 알려진 Cr6+가 발생기며 폐수처리에

  리포트 | 18페이지 | 2,000원 | 등록일 2007.11.11

  다운로드 장바구니
• 

  [Chemical Vapor Deposition ] CVD

  PACVD 3 MOCVD Ⅳ. CVD의 응용 분야 및 기대효과 Ⅳ. 결론 Ⅰ. CVD(Chamical Vapor Deposition) 의 정의와 원리 1. ... PAPVD와 PACVD의 기본적인 공정 특성을 Table 1에 비교하여 나타내었다. 재료의 수명을 좌우하는 요인 중에서 실제로 수명에 가장 큰 영향을 주는 것이 부식과 마모이다. ... 잘 알려진 바와 같이 PAPVD 또는 PACVD로 제조한 TiN 박막은 2,000∼3,500kg/mm2의 높은 경도를 나타내며 표면 마찰계수가 작아서 절삭공구 등의 표면처리에 광범위하게

  리포트 | 26페이지 | 1,000원 | 등록일 2001.11.21

  다운로드 장바구니
• 

  [반도체]진공증착

  PACVD 기술은 Thermal 다. ... PACVD에서의 플라즈마의 가장 중요한 역할은 낮은 온도에서 반응가스를 분해시키는 것이다. ... 초기의 플라즈마 CVD(Plasma - assisted CVD, 이하 PACVD)는 PAPVD의 경우와 마찬가지로 특별한 도구 없이 손쉽게 얻을 수 있는 글로 방전 플라즈마를 이용하였다

  리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.05.26

  다운로드 장바구니
• 

  플라즈마(plasma) 표면처리

  맺음말 *PACVD = Plasma-Assisted Chemical Vapour Deposition *고주파 플라즈마 화학적 기상 증착법을 이용, 고순도의 탄소 코팅 제조 *PACVD

  리포트 | 20페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.12.16

  다운로드 장바구니
• 

  [공학]투명전극(TCO)

  . - PACVD법에 의한 비정질 Si코팅 시 전도도 및 투과율 저하현상이 없음. 전도도 향상을 위해 Al 도핑.

  리포트 | 17페이지 | 2,000원 | 등록일 2007.04.03

  다운로드 장바구니
• 

  [반도체]CVD 화학증착

  PACVD에서의 플라즈마의 가장 중요한 역할은 낮은 온도에서 반응가스를 분해시키는 것이다. ... 초기의 플라즈마 CVD(Plasma - assisted CVD, 이하 PACVD)는 PAPVD의 경우와 마찬가지로 특별한 도구 없이 손쉽게 얻을 수 있는 글로 방전 플라즈마를 이용하였다

  리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.05.26

  다운로드 장바구니
• 

  플라즈마 코팅

  Magnetron Sputtering, Arc sputtering, Laser abliation 등의 PVD법 - PE-CVD, ECR-CVD, ICP-CVD, Thermal CVD, PACVD

  리포트 | 26페이지 | 3,000원 | 등록일 2008.06.03

  다운로드 장바구니
• 

  [반도체]CVD

  PACVD 1970년대 후반부터 시작되었고, 레이져나 램프를 이용하여 film을 성장시킨다. ... CVD공정의 종류 PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) PACVD (Photo-CVD) MOCVD (Metal Organic Chemical

  리포트 | 21페이지 | 2,500원 | 등록일 2003.04.19

  다운로드 장바구니
• 

  플라즈마

  한편 질화처리한 시편은 450℃에서 30분간 Ar스퍼터링을 거쳐 CH4:N2:H2=66:24:10(vol%), 20min, 80W의 조건으로 r.f-PACVD(Plasma assisted

  리포트 | 11페이지 | 1,500원 | 등록일 2008.01.05

  다운로드 장바구니
• 

  [공학기술]플라즈마의 첨단기술 응용

  1.플라즈마의 정의 및 응용분야 1)플라즈마의 정의 물질의 상태는 고체, 액체, 기체, 플라즈마 상태(제 4의 상태)가 있다. 물질 중 가장 낮은 에너지 상태는 고체이다. 이것이 열(에너지)을 받아서 차츰 액체로 되고 그 다음에는 기체로 전이를 일으킨다. 기체(GAS..

  리포트 | 16페이지 | 2,000원 | 등록일 2007.05.29

  다운로드 장바구니