"solvent resistance" 검색결과 1-20 / 142건

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  Cariflex 입사 자기소개서 작성 성공패턴과 면접문제 입사시험 필기시험경향 인성검사문제 논술문제 직무계획서 작성견본 논술문제

  solvents varied from good to poor. ... , dimethyl sulfoxide, and some alcohols in a comparative test of glove materials; resistance to other ... 39) 폴리이소프렌의 공업적 용도에 대해 영어로 설명해 보세요.There are two main solvents for rubber: turpentine and naptha (petroleum

  자기소개서 | 524페이지 | 9,900원 | 등록일 2022.02.03

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  [A+레포트] 마이크로리소그래피 실험 Microlithography

  이러한 이유 때문에 resist로 사용되 는 solvent system 수가 한정되어 있다. ... 산화막 층을 제거해 줄 수 있고, 단순히 solvent로 cleaning 해 줄 수 있다. ... Spinning의 물리 적 현상은 복잡하고, 사용되는 solvent의 증발률에만 크게 의존한다.

  리포트 | 10페이지 | 3,000원 | 등록일 2021.11.16 | 수정일 2021.11.18

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  화공계측실험Pre-Report (10)-Photolithography

  대부분의 positive PR은 염기성 용액에서 solving과 developing 이 가능하다. 대표적인 solvent는 KOH와 TMAH가 있다. ... 남아있는 solvent의 경우 90~100℃ 로 가열시켜 주면 제거 할 수 있다. 두 번째로 빛에 노출시키는 과정이 진행된다. ... Solvent 로는 xylene이 가장 널리 사용되는 aromatic solvent 이다. 실제로는 거의 모든 유기용매가 사용 가능하다.

  리포트 | 6페이지 | 2,000원 | 등록일 2020.06.12

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  연세대 약대 최종 학업계획서

  CO2 solvent anti-solvent(SAS)와 같은 제형에 대해 깊이 있게 학습하겠습니다. ... 조별 과제 발표 주제로 ‘Vancomycin-resistant. ... ‘Preparation and application of pH-responsive drug delivery systems’ 논문에서, 항생제로 사용되는 sulfadiazine과 tobramycin을

  자기소개서 | 2페이지 | 20,000원 | 등록일 2023.08.28

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  Microscale Patterning with Photolithography and Etching Processes_결과레포트

  감광제의 두께는 웨이퍼의 회전속도와 PR의 점도에 의하여 결정된다. t=Ks[v/(wR^2 )] Photo resist PR은 resin, solvent, PAC(Photo Active ... 만약 solvent가 제거되지 않는다면 solvent가 빛을 흡수하여 노광 시에 PR이 제대로 반응하지 않을 수 있다. ... Soft baking을 통해 PR 코팅 후 웨이퍼를 구워서 UV expose 전에 PR 속의 solvent를 적절하게 제거해야 한다.

  리포트 | 6페이지 | 3,000원 | 등록일 2023.12.12

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  아자이드 기능기를 이용한 용매 저항성 공액 고분자 개발

  한국화상학회 김승주, 이규철

  논문 | 7페이지 | 4,000원 | 등록일 2024.01.29

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  반도체공정 photo lithography 발표자료

  Lithography 공정 step1.PR coating 구성 - solvent( 용제 ) : 감광제가 기판에 도포되어 사용될 때까지 액체 상태 유지 - polymer( 다중체 ) ... Lithography 공정 Wafer(substrate)( 친수성 ) HMDS 막 Photo Resist? ... 현상 (Development) 150℃ 정도의 Hot Plate위에서 Wafer 가열 균일도 유지를 위해 솔벤트를 제거 Photo Resist를 경화 #Soft Baking과의 차이점

  리포트 | 23페이지 | 2,500원 | 등록일 2021.06.03

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  반도체(포토리소그래피,나노임프린트)실험 결과 보고서(실험과정, 분석)

  Investigating defect mechanisms for a low-volume resist coating recipe with a solvent prewet step. ... 기포자국이 생기게 된다. (3) Soft Bake : PR 코팅 이후 delay time을 약간 가진 후 PR의 solvent를 제거하고 기판과의 접착력을 높여 주기 위해 soft ... 현상을 시켜 준다. (7) cleaning and dry : DI water로 20초 정도 씻어 준 다음 air gun으로 건조 시켜준다. (8) Hard Bake : 현상 이후의 solvent를

  리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2020.11.02 | 수정일 2023.08.24

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  반도체 소자 및 설계

  The cross-linked resist cannot be washed away in solvents. {nameOfApplication=Show} ... Process Lithography •Positive lithography : the pattern printed on the wafer surface has the same image ... Crystal Growth Float Zone Crystal Growth Diffusion Two-Step Diffusion Predeposition Step (constant source

  리포트 | 15페이지 | 1,000원 | 등록일 2019.06.08

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  Determination of polymer molecular weight

  Viscosity It means the resistance of fluid to deformation under shear stress. ... Here, K and is empirical parameters characteristic of a particular solute-solvent pair and M is molecular ... To find this, we use the Mark Houwink formula. (: known constant depending on the polymer, solvent and

  리포트 | 6페이지 | 2,000원 | 등록일 2021.12.16

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  캡스톤디자인1 Solarcell Project 최종발표

  - solvent 제거를 통해 접착력 향상 - 원심력에 의한 스트레스를 완화 1. Solar Cell Process 1 2 3 4 3-2. ... resistance (By controlling ohmic contact monitoring process) Increase the shunt resistance (By controlling ... surface recombination (By passivizing the interfaces which are not covered by metals) Decrease the series

  리포트 | 37페이지 | 10,000원 | 등록일 2021.07.16

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  29th_abstract_ZPE_1차 서류 합격작

  interfacial resistance. ... solvent-free and non-migrating electrolyte matrix materials for ASSLMBs. ... Beyond that, the zwitterion could also serve as a unique solvent with a large dipole moment for enhancing

  리포트 | 2페이지 | 6,000원 | 등록일 2023.02.06

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  [고분자재료실험]ITO patterning 결과레포트

  이를 통해 잔여 용매(용제, solvent)를 제거하고 PR의 접착력 및 내식각성을 증가시킨다. ... 현상이 끝나면 미미하게 남아있는 PR 내부의 PEGMEA와 같은 solvent를 제거하고 세척 후 완전한 수분제거를 목적으로 후 열처리를 시켜줘야 하는데(post-bake) 이러한 ... 즉, resist가 줄어드는 기울기가 가파를 수록 CMTF는 높아지게 됩니다. PR마다 최적의 시간이 다른데 민감한 PR일수록 UV-exposure 시간은 짧아질 수 있다.

  리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2022.01.21

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  Calendar Aging of litihum in battery-전지음극 셀 에이징 영향 논문 리뷰

  of the electrolyte solvent and condinuously accelerated capacity fade with an increase of the storage ... 70%: The NMC cer capacity fade than the NCA and LFP cells Cell resistance in NCA and NMC: resistances ... between capacity fade and resistance increase Results and discussion Journal of The Electrochemical

  리포트 | 6페이지 | 2,000원 | 등록일 2022.01.22 | 수정일 2022.01.26

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  Photoresist processing

  solvent로 쉽게 용해시킬 수 있게 되고 우리가 원하는 부분을 제외하고 Develop 시킬 수 있게 된다. ? ... 빛을 받은 부분이 soluble해지고 빛을 받지 않은 부분은 insoluble한 resist를 Postive resist라 하고 빛을 받은 부분이 insoluble해지고 빛을 받지 ... 여기서 빛을 받은 부위가 현상액에 녹는 경우를 positive resist, 그 반대를 negative resist라고 한다.

  리포트 | 4페이지 | 3,000원 | 등록일 2021.01.18 | 수정일 2023.01.12

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  [ Perovskite Solar Cells ] 페로브스카이트 태양전지 이론 - 태양전지 연구인력을 위한 기본서

  이와 관련하여 spiro-OMeTAD에 의해 degradation 되는 메커니즘에 관한 논문이 있다. [3.73] 일정 온도, 50% RH에서 빛을 쪼였을 때 series resistance가 ... 구성하였을 때 IPA/CYHEX solvent의 포화상태가 되었고 가장 높은 효율을 이루었다. ... solvent를 이용하여 만든 paintable carbon-based PSCs는 photovoltaic performance와 performance reproducibility에

  리포트 | 34페이지 | 10,000원 | 등록일 2019.10.16 | 수정일 2019.10.20

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  영어 고퀄리티 세특 보고서 - 리튬의 모든것. (채굴, 특징, 사용 등)

  This process includes techniques such as precipitation, solvent extraction, or ion exchange to eliminate ... Since Lithium metal has a low electric resistance, it allows a fast recharge that is necessary for people ... and impactful: Lithium—a soft, silvery-white metal.

  리포트 | 3페이지 | 3,000원 | 등록일 2023.11.13

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  microlens array 레포트

  이 과정에서 PR안의 viscosity를 조절해주기 위해 들어있던 solvent를 어느 정도 날려준다. ... 이 과정은 빛에 반응하는 물질을 물체에 코팅을 한 후에, 빛을 가하면 positive resist는 빛을 받은 부분이 사라지e resist는 빛을 받지 않은 부분이 사라지게 된다. ... Positive resist를 사용했으므로, 빛을 받은 부분에 있던 물질은 증발을 할 것이다.

  리포트 | 6페이지 | 2,500원 | 등록일 2021.03.24

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  Microscale Patterning with Photolithography and Etching Processes_예비레포트

  Hard bake를 통해 soft bake보다 높은 온도에서 열처리 하여 soft bake에서 남았던 solvent를 완전히 제거하여 PR과 웨이퍼의 접착력을 높인다. ... 빛에 반응하며 특성이 바뀌는 감광성 화학물질인 PR(Photo Resist)을 웨이퍼 위에 얇게 코팅한 후 설계된 도면에 맞춰 원판 mask를 제작하고 mask에 빛을 조사하여 원하는 ... RPM 2000, 5sec -> RPM 1000, 40sec -> RPM 2000, 4sec Soft baking: 120°C, 90초 동안 heating plate로 가열한다.

  리포트 | 5페이지 | 3,000원 | 등록일 2023.12.12

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  실험 2. Synthesis of Hexakis(4-nitrophenoxy)cyclotriphosphazene

  상전이 촉매는 반응속도를 가속화 시키고 solvent의 남용을 최소화한다. ... Phosphazines are used in industry to prepare fire-resistant polymers. ... Based upon a review of the literature, what properties render a material fire resistant?

  리포트 | 13페이지 | 2,500원 | 등록일 2021.11.15

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