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ALD 결과보고서

호두형
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최초 등록일
2020.12.15
최종 저작일
2020.06
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목차

1. 실험제목

2. 실험날짜

3. 실험목적

4. 시약 및 기기

5. 실험방법

6. 실험결과
1) 200 cycle
2) 400 cycle
3) Reflectometer 측정 결과값

7. 결론 및 고찰
1) CVD와 ALD의 차이점은 무엇인가?
2) PEN film 위에서 200 cycle ALD 공정한 TEM image를 보면 박막 의 두께가 2개로 표시되어 있다. 이유를 유추해 보시오.

본문내용

1. 실험제목 : ALD

2. 실험날짜 : 2020-05-15

3. 실험목적 : ALD 공정의 원리를 이해한다.

4. 시약 및 기기
Silicon wafer, PEN(Polyethylene naphthalate) film, ALD Reactor, TMA(Trimethyl aluminum), H2O, N2

5. 실험방법
① Silicon wafer와 PEN(Polyethylene naphthalate) film을 준비한다.
② Si wafer는 11cm2로, PEN film은 33cm2로 잘라서 준비한다.
③ ALD chamber 안에 샘플을 loading한다.
④ 공정레시피를 설정한 후, 공정을 시작한다.
⑤ 공정이 끝난 샘플 박막의 두께를 Reflectometer로 측정한다.

참고 자료

없음
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