"RF magnetron sputtering technique" 검색결과 21-40 / 185건

• 

  magnetron sputter를 이용한 박막 형성 실험레포트

  실험 결과 RF - Magnetron Sputtering system의 값은 다음과 같이 나타났다. ... 등을 Monte Carlo 방법으로 추적하여 sputtering 현상을 유추해 보았다. sputtering현상을 살펴보기 위해 magnetron sputter내 플라즈마밀도, 전자온도 ... 실험 목적 현재 magnetron sputter는 반도체, LCD 등을 포함하는 microelectronics 산업에서 박막 형성을 위한 주요 장비로 널리 쓰이고 있으며, 소자의 고집적화

  리포트 | 9페이지 | 1,000원 | 등록일 2014.08.18

  다운로드 장바구니
• 

  재공실 - sputtering 결과보고서

  RF Magnetron Sputter를 이용한 박막 증착 원리 이해 1. sputter의 각 부분의 명칭과 기능 sputter system 위 그림처럼 ... 단점으로는성막속도( ... 이온으로 타겟을 재차 스퍼터하는 자기 스퍼터(self sputtering)라고 한다.

  리포트 | 3페이지 | 2,000원 | 등록일 2013.10.29

  다운로드 장바구니
• 

  PVD의 종류와 특성, 응용분야

  sputtering etching으로 모재의 pre-cleaning이 가능하다. ② 단점 ? 증착속도가 낮다. (Magnetron sputtering으로 증가 가능) ? ... (bias sputtering으로 개선 가능) (3) 스퍼터링의 종류 ① D.C(직류) 2극 스퍼터링 스퍼터링의 저온플라즈마는 글로우방MHz 이다. RF 스퍼터링의 장점 ? ... 이러한 현상을 물리학에서는 “sputtering”이라고 말한다.

  리포트 | 21페이지 | 2,500원 | 등록일 2015.01.08 | 수정일 2023.04.29

  다운로드 장바구니
• 

  반도체제작공정-박막증착공정

  Laboratory DC RF Magnetron sputter 박막 증착 공정 Materials Processing Laboratory Ion beam sputter 박막 증착 공정 ... 박막 증착 공정 Materials Processing Laboratory RF sputter 박막 증착 공정 + - + + + - + + + substrate + chamber - ... + - - - + - - - target Time Materials Processing Laboratory Magnetron sputter 박막 증착 공정 Materials Processing

  리포트 | 25페이지 | 2,000원 | 등록일 2010.09.09

  다운로드 장바구니
• 

  진공의 이해

  고에너지 입자와 운동량을 교환하여 표면에서 밖으로 튀어 나오는 현상 [충돌 전] [충돌 후] sputtering 가스를 진공상태의 Chamber 내 주입 Target 물질과 충돌시켜 ... m2= 7.5 x 10-3 Torr 주요 압력 단위 환산 관계 진공의 단위 및 분류 증착 장비 증착 기술 - PVD (Physical Vapor Deposition) • 스퍼터링 (sputtering ... Main valve foreline valve roughing valve conductance valve target cathode Sputtering 의 특성 • 거의 모든 원소를 sputtering

  리포트 | 58페이지 | 2,000원 | 등록일 2018.06.10

  다운로드 장바구니
• 

  VLSI공정 5장 문제정리

  RF sputtering은 13.56MHz의 RF power를 사용하여 자기 바이어스를 일으키므로 부도체 타겟도 가능하다. Magnetron 스퍼터링은? ... DC sputtering와 RF sputtering을 비교하여라. glow방전을 위해 DC power를 사용하는 것이 DC sputtering 이며 타겟으로 금속만 가능하다. ... -대면적을 균일한 두께로 증착 가능 -두께 조절 용이 -정확한 합금성분 조절 -step coverage, grain structure(입자구조), stress(응력) 조절가능 -전처기

  리포트 | 10페이지 | 4,000원 | 등록일 2018.06.05 | 수정일 2020.05.03

  다운로드 장바구니
• 

  부산대학교 졸업 논문 (Flexible Display용 PI기판 위 ITO 증착 시 Stage Temperature에 따른 특성 변화 연구)

  사용한 증착 장비는 DC/RF magnetron sputtering system이며, 측정 장비는 XRD, 4-point probe, UV-VIS spectrophotometer이다 ... 증착 장비로는 DC/RF magnetron sputtering system을 사용 했다. Table 1은 사전 실험 후 측정한 deposition rate를 보여준다. ... 또한, ITO가 다른 물질에 의해 오염이 되었을 수도 있으므로, pre-sputtering을 30분 동안 실시하였고, 증착이 완료된 시편은 알파스텝을 이용하여 두께를 측정했다.

  논문 | 6페이지 | 3,000원 | 등록일 2020.05.18

  다운로드 장바구니
• 

  sputtering

  , modified RF magnetron sputtering 다음 두 가지 방법이 기본이다. (1) metallic cathode ? ... 불활성 기체로 Ar이 탁월 - 값이 싸고, 무거워서 sputtering yield가 높다. ② reactive process DC diode, RF diode, triode, magnetron ... 거의 모든 물질이 RF discharge에서 sputter되지만, 생성된 막이 target의 조성과 반드시 일치하지는 않으며, 금속, 합금, 산화물, 질화물, 탄화물 등의 증착 등에

  리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.03.24

  다운로드 장바구니
• 

  Sputter Deposition

  거의 모든 물질이 RF discharge에서 sputter되지만, 생성된 막이 target의 조성과 반드시 일치하지는 않으며, 금속, 합금, 산화물, 질화물, 탄화물 등의 증착 등에 ... (전통적인 DC magnetron에서 증착 원자당 0.05～0.10이온) (4) magnetron sputtering으로 hard coating을 할 경우 ① 내부식성, 내마모성을 ... Sputtering techniques ○ 장점 ? 작아야 한다.

  리포트 | 21페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.11.02

  다운로드 장바구니
• 

  PVD (Physical Vapor Deposition), 물리 증착법

  RF sputtering Magnetron sputtering Ion beam sputtering ion plating Electron Beam Ion plaing Cathodic ... 있다. ④Ion beam sputtering 이온원에 의해 이온을 만들고 전기계에 의해 고진공 중에 끌어내어 물질 흐름으로서의 이온빔을 기판쪽에 수송하여 기판 표면에 소망하는 박막을 ... Electron Beam deposition Spark / Arc Processing Cluster Beam Deposition Resistive Heating Sputtering DC sputtering

  리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.07.05

  다운로드 장바구니
• 

  박막제조기술

  target - - - + - - - + - substrate + chamber + + + - + + + - + Time Magnetron sputter DC RF Magnetron ... inter-atomic distance Physical vapor deposition Evaporation Evaporation Sputter DC sputter RF sputter ... sputtering Pulsed Laser Depostion Ion Beam sputtering Thermal CVD Plasma enhanced CVD Metal-organic

  리포트 | 24페이지 | 2,000원 | 등록일 2009.03.25

  다운로드 장바구니
• 

  SPUTTER

  RF Sputtering - RF sputtering은 금속 이외에도 비금속, 절연체, 산화물, 유전체, 등의 sputtering이 가능하며 주로 13.56MHz의 고주파 전원을 사용함 ... 자료: Angstrom Sciences Sputtering 종류 DC sputtering - 직류 전원을 사용하여 전도체를 sputter RF sputtering - 고주파 전원을 ... 사용하여 금속 뿐만 아니라 부도체 sputter 가능 Triode sputtering 금속 필라멘트를 가열시켜 열전자를 방출하여 이온화률 높여 낮은 압력과 전압에서 증착가능 Magnetron

  리포트 | 27페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.06.07

  다운로드 장바구니
• 

  연속 ECR-CVD 조업하에 RF-magnetron-sputter의 싸이클조업을 통해 PET위에 올려진 구리박막의 특성

  한국재료학회 명종윤, 전법주, 변동진, 이중기

  논문 | 8페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

  다운로드 장바구니
• 

  Ferroelectric 캐패시터의 하부전극에의 응용을 위한 IrO2 박막 증착 및 특성분석

  한국재료학회 허재성, 최훈상, 김도영, 장유민, 이장혁, 최인훈

  논문 | 5페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

  다운로드 장바구니
• 

  스퍼터링

  이때 들어오는 전원의 종류에 따라 DC magnetron sputtering 또는 RF magnetron sputtering 으로 불리게 된다. ... 마그네트론 스퍼터링 (Magnetron Sputtering) 마그네트론 스퍼터링 기술은 발생된 플라즈마(아르곤 등의 비활성가스)를 영구자석을 이용해 만든 자기장을 이용해서 수백볼트의 ... 여기서 인가된 전원이 직류(direct current, DC)일 경우를 직류스퍼터링법(DC sputtering methode)라 하며 일반적으로 전도체의 스퍼터링에 사용된다. 2.

  리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.09.21

  다운로드 장바구니
• 

  Cosputtering법으로 증착한 ZnO박막의 Al도핑농도가 미세구조 및 물리적 특성에 끼치는 효과

  한국재료학회 임근빈, 이종무

  논문 | 4페이지 | 3,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

  다운로드 장바구니
• 

  p-Si 기판에 성장한 BaTiO3 박막의 두께와 구조적 특성과의 관계

  한국재료학회 민기득, 이종원, 김선진

  논문 | 5페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

  다운로드 장바구니
• 

  RF마그네트론 스퍼터링 법에 의해 증착된 SrBi2Nb2O9 박막의 Bi 량의 조절에 따른 특성분석

  한국재료학회 이종한, 최훈상, 성현주, 임근식, 권영석, 최인훈, 손창식

  논문 | 5페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

  다운로드 장바구니
• 

  재공실 - sputtering 예비보고서

  RF-Magnetron Sputter를 이용한 박막 증착 원리 이해 1. ... 그런 이유로 각 입자의 운동속도도 아주 큰 차이를 보이는데 이는 sheath, debye shielding 같은 현상을 초래한다. 4) 자기적 특성 :플라즈마 내부에 있는 전자와 이온들은

  리포트 | 2페이지 | 2,000원 | 등록일 2013.10.29

  다운로드 장바구니
• 

  RF Magnetron Sputtering을 이용하여 제작한 불용성 촉매전극의 해수전기분해 특성

  한국재료학회 이현석, 김세기, 석혜원, 김진호, 최헌진, 정하익

  논문 | 5페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

  다운로드 장바구니