"RF magnetron sputtering technique" 검색결과 61-80 / 185건

• 

  85화합물 반도체 공정(유전막 증착)

  높다 단점 Target 재료가 금속에 한정됨 - RF sputtering이 보완함 높은 Ar압력이 필요하다. ... 증착속도가 느리다 - Magnetron Sputtering이 보완함 RF 스퍼터링 RF 스퍼터링 장치는 절연체의 박막을 증착시키기 위해서 개발됨. ... 종류 DC 스퍼터링 RF 스퍼터링 Magnetron 스퍼터링 그 밖의 스퍼터링 - 3극 스퍼터링 - Unbalanced magnetron 스퍼터링 - 반응성 스퍼터링 DC 스퍼터링

  리포트 | 43페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.02.18

  다운로드 장바구니
• 

  스퍼터링 장비(펌프,게이지,Sccm)

  예비보고서 (4/27) 윤영훈 주제 : RF-magnetron sputtering을 이용하여 저온증착 ZnO 및 고온증착 ZnO 박막의 증착 및 분석 1. ... CM^3 / min . ## 이런 기준을 두는 이유는 기체는 온도와 압력에 따라 부피가 변하기 때문에 기준을 잡아줄 필요가 있기 때문이다.

  리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2015.05.18

  다운로드 장바구니
• 

  [금속공학실험]ZnO박막 실험

  Sputtering) 라) 이온빔 스퍼터링(Iom-beam Sputtering) ②RF(Radio Frequency) 과정 : RF 마그네트론 3. ... 만일 충돌하는 입자들이 양의 이온(positive -ion)이라면 cathodic sputtering이라고 부르는데, 대부분의 스퍼터링은 cathodic sputtering이다. ... 스퍼터링(sputtering) 현상은 1852년 Grove에 의하여 처음 발견되었으며[3], 현재는 여러 가지 박막의 형성에 광범위하게 사용되어지고 있다.

  리포트 | 8페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.05.25

  다운로드 장바구니
• 

  sputtering을 통한 metal deposition 및 I-V, C-V 측정

  , modified RF magnetron sputtering 다음 두 가지 방법이 기본이다. ① metallic cathode ? ... 불활성 기체로 Ar이 탁월 - 값이 싸고, 무거워서 sputtering yield가 높다. 2) reactive process DC diode, RF diode, triode, magnetron ... 불활성 gas plasma를 이용하여 sputtering - target이나 기판에 직접적인 화합물 형성에 참여하지 않음 ?

  리포트 | 16페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.04.21

  다운로드 장바구니
• 

  [sputter]sputter 종류와 mechanism

  DC diode, RF diode, triode, magnetron, modified RF magnetron 스퍼터링 장치가 반응성 스퍼터링 장치로 이용될 수 있다. ... 만일 충돌하는 입자들이 양의 이온(positive -ion)이라면 cathodic sputtering이라고 부르는데, 대부분의 스퍼터링은 cathodic sputtering이다. ... 일반적으로 sputter yield는 이온의 에너지와 질량이 증가하면 증가한다.

  리포트 | 11페이지 | 2,000원 | 등록일 2006.02.26

  다운로드 장바구니
• 

  ZrO2 MIM 캐패시터의 구조, 표면 형상 및 전기적 특성

  한국재료학회 김대규, 이종무

  논문 | 4페이지 | 3,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

  다운로드 장바구니
• 

  Investigation on microstructure and anti-wear performance of TiN-WC/TiN films prepared by the hybrid technique of arc ion plating and magnetron sputtering

  and DC & RF magnetron sputtering. ... of arc ion plating and magnetron sputtering. ... of arc ion plating and magnetron sputtering Abstract: By adjusting the power of WC target, TiN-WC films

  리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.07.07

  다운로드 장바구니
• 

  Cu film의 전기적 특성 분석 실험

  높은 working pressure ⇒ 박막의 순도 ↓ ③ sputter의 종류 D.C sputter R.F sputter Ⅰ) DC sputtering 직류전원을 이용한 sputtering ... DC sputtering에서는 target이산화물이나 절연체일 경우 sputtering되지 않는다. ... target 물질의 면적비와 대차가 없어 응용범위가 넓다. - 성막속도가 여러 종류의 금속에 대해 거의 일정하다. - 전류량과 생성피막의 두께가 정비례하므로 두께의 조절이 쉽다. - RF

  리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2014.04.03

  다운로드 장바구니
• 

  스퍼터링

  마그네트론 스퍼터링(magnetron sputtering) Glow 방전(discharge)의 경우 낮은 가스압 하에서는 전자들의 평균자유 행로가 너무 커서 이온화 효율(ionization ... 타겟 표면으로 입사되는 입자에 의해 sputter 되는 원자 이외에 또 다시 secondary electron 도 나오게 되는데 이들은 다시금 sputtering gas 를 때려 연쇄적인 ... 이 현상을 스퍼터링(sputtering) 현상이라고 부른다.

  리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.05.10

  다운로드 장바구니
• 

  Development of high-efficiency flexible Cu(In,Ga)Se2 solar cells 해석

  SLGTF of thickness 100.120 nm were deposited by rf-magnetron sputtering on substrates prior to the deposition ... SLGTF의 두께 (100.120 nm)는 정도의 rf-magnetron 스퍼터링에 의해 제작되었다. ... After SLGTF deposition, 800-nm thick Mo layers were deposited by sputtering.

  리포트 | 7페이지 | 2,000원 | 등록일 2013.05.26

  다운로드 장바구니
• 

  KLN 스퍼터링용 타겟의 제조 및 코닝 1737 유리 기판위에 성장시킨 박막의 광학적 성질

  한국재료학회 박성근, 서정훈, 김성연, 전병억, 김진수, 김지현, 최시영, 김기완

  논문 | 7페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

  다운로드 장바구니
• 

  [발광디스플레이실험] Photolithography

  특히 dry etching의 경우 ion 가속만을 이용하는 IBE(ion beam etching)나 sputtering과 같이 magnetron을 이용하는 sputtering etching이 ... 증착(Deposition) 1) Sputtering : DC 또는 RF magnetron을 이용하여 증착하고자 하는 물질의 target으로부터 입자를 떼어내어 특정 기판상에 옮겨 붙이는 ... 일반적으로 sputtering 방법은 증착 속도가 느리고 증착할 수 있는 두께의 한계가 있으며 alloy나 ceramic 등과 같이 여러 물질이 조합된 물질을 증착할 경우에 조성비를

  리포트 | 8페이지 | 10,000원 | 등록일 2013.06.14

  다운로드 장바구니
• 

  Photolithography 예비보고서

  인가된 전원에 따라 RF·DC magnetron sputtering이라 한다. Ⅱ . ... 마그네트론 스퍼터링(magnetron sputtering)이란 발생된 플라즈마를 영구자석에서 발생하는 자속(flux)에 의해 집진하여 기판에 성막시키는 방법이다. ... RF sputtering법은 다른 디지털 회로에 noise의 발생 원인이 될 수 있으므로 시스템적으로 noise filter나 절연체에 의한 차폐와 접지가 중요하다.

  리포트 | 4페이지 | 1,500원 | 등록일 2011.07.10

  다운로드 장바구니
• 

  [전자공학]Sputter

  RF sputtering (1) sputtering plasma 발생 oscillating power source를 사용하므로 DC방법이 절연물질의 증착이 불가능한 반면, RF방법은 ... (전통적인 DC magnetron에서 증착 원자당 0.05～0.10이온) (4) magnetron sputtering으로 hard coating을 할 경우 ① 내부식성, 내마모성을 ... RF sputtering system (2) 주파수가 50kHz이상이면, negative glow region에 있는 전자들은 기체 원자들을 직접 이온화 할 수 있는 충분한 에너지를

  리포트 | 21페이지 | 3,000원 | 등록일 2005.09.13

  다운로드 장바구니
• 

  메모리 반도체 제작 과정 및 이론 설명 ppt

  Magnetron sputtering Metallization 공정 Assembly process Electrical die sorting Assembly process Wafer ... 스퍼터 바이어스 스퍼터 진공증착법 저항가열증착 전자빔증착 고추파가열 증착 이온 플레이팅법 RF sputtering ~10 −12 torr 0.5 torr to 10 −4 Torr ... sputtering Pulsed Laser Depostion Ion Beam sputtering Thermal CVD Plasma enhanced CVD Metal-organic

  리포트 | 72페이지 | 10,000원 | 등록일 2013.04.22 | 수정일 2023.04.24

  다운로드 장바구니
• 

  Diode-3주차 예비레포트

  argon plasma, and those methods which use RF plasma are called RF sputtering methods, while those using ... Normally, a DC magnetron sputtering method is used to manufacture the transparent oxide electrode films ... described above. ⓒ RF superimposed DC sputtering Sometimes plasma obtained by superposing radio frequency

  리포트 | 2페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.03.18

  다운로드 장바구니
• 

  Sputter 박막 제조법

  Sputtering의 종류 5.1 DC Diode Sputtering 5.2 RF Sputtering 5.3 Magnetron Sputtering 5.4 Reactive Sputtering ... (a) (b) (c) [그림1] Sputter Deposition의 원리 - (a), (b), (c) 과정을 반복한 성막속도가 낮아서( ... 금속 표적재료의 경우 한 개의 Ar 이온이 표적재료에 입사할 때 표 1에 보이는 것처럼 1∼2원자가 증기 상으로 방출되어 증발효율이 낮은 편이나, 마그네트론을 이용하여 Sputtering

  리포트 | 13페이지 | 4,000원 | 등록일 2012.12.11

  다운로드 장바구니
• 

  DC 마그네트론 스퍼터링 장치를 이용한 Cu 증착률의 스퍼터링 압력 및 Power 의존성 조사

  Magnetron Sputtering System. 9. ... 중성 원자를 쓰던 또는 이온을 쓰던 같은 질량과 같은 에너지를 가지고 있다면 sputter yield에 영향을 미치지 않기 때문에 별다른 의미가 없다. ... yield) 스퍼터율(sputter yield)은 하나의 양이온이 음극에 충돌할 때 표면에서 방출되는 원자의자꾸 다른 입자와 충돌하여 큰 에너지를 갖는 못한다.

  리포트 | 37페이지 | 6,000원 | 등록일 2008.01.16 | 수정일 2014.08.20

  다운로드 장바구니
• 

  Sputter 원리 및 종류 영어 발표자료

  surface per incident ion and is a measure of the efficiency of sputtering Deposition Parameters of Sputter ... Type of Sputter Magnetron Sputter Magnetron force the electron onto helical paths close to cathode Improve ... Ion &Electron Discharge is maintained : Accelerated electrons ionize new ions by collisions with the sputter

  리포트 | 12페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.02.06

  다운로드 장바구니
• 

  CIS,CIGS

  system RF sputtering system magnetron sputtering system 태양광발전의 경제성을 향상시킬 수 있는 저가, 고효율의 태양전지 재료로 부각되고 ... 간단한 구조 저렴한 구성 대면적화의 어려움 진공장치 내부의 심각한 오염 양질의 박막 제작이 힘듬 미국의 국립재생에너지연구소 19.5%의 에너지변환효율 스퍼터링 기술의 모식도 DC sputtering

  리포트 | 23페이지 | 15,000원 | 등록일 2010.12.22 | 수정일 2022.08.12

  다운로드 장바구니